最新代高性能功率MnZn鐵氧體TP4D材料.pdf

1、TP4D材料是一種超低功耗、高飽和磁通密度的最新代功率鐵氧體材料。為研制該材料，由浙江天通電子股份有限公司(TDG)與上海大學(xué)理學(xué)院組成的課題組進(jìn)行了大量的配方實(shí)驗(yàn)和材料制造工藝實(shí)驗(yàn)。在此基礎(chǔ)上總結(jié)提出了復(fù)合離子二次摻雜技術(shù)和高密度二次保溫?zé)Y(jié)技術(shù)。所謂“復(fù)合離子”即采用高價(jià)(4價(jià)，如SnO2)和低價(jià)(2價(jià)，如CaCO3)兩種離子同時(shí)摻雜。本課題組經(jīng)過大量實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，由CaCO3-Nb2O5-Ta2O5組成的復(fù)合離子效果最好，在100kH

2、z，200mT的使用條件下，功率損耗可低至250mw/cm3(100℃)，比傳統(tǒng)的CaO-SiO2摻雜在相同測(cè)試條件下的實(shí)驗(yàn)結(jié)果340mw/cm3還要低?！岸螕诫s技術(shù)”即在二次球磨時(shí)再加入適量復(fù)合微量元素?！岸伪?zé)Y(jié)技術(shù)”是指在傳統(tǒng)燒結(jié)曲線的降溫過程中，設(shè)計(jì)一個(gè)升溫、保溫、繼續(xù)降溫過程，采用該技術(shù)有利于在一定的溫度點(diǎn)使氧化還原反應(yīng)充分完成。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，新技術(shù)對(duì)降低材料的功率損耗十分有效。 本文第一章為序論，介紹課題情況，