TaNx-Ag-TaNx低輻射薄膜的制備及性能研究.pdf

1、低輻射玻璃具有很高的可見光透過率和遠(yuǎn)紅外反射率，既能保證室內(nèi)的采光要求又有很好的節(jié)能效果。隨著低輻射玻璃在建筑物中的廣泛應(yīng)用以及對低輻射薄膜的深入研究，低輻射薄膜的穩(wěn)定性逐漸成為目前的研究熱點。從成本和性能方面考慮，目前使用的離線低輻射薄膜多為銀基低輻射膜，但是銀膜不耐磨、熱穩(wěn)定性差、耐濕性差、不耐化學(xué)腐蝕。因此，選擇合適的保護(hù)層，有效保護(hù)銀膜，提高薄膜附著力，提高低輻射玻璃的使用壽命，顯得尤為重要。氮化鉭薄膜具有良好的機械性能和優(yōu)異的

2、化學(xué)穩(wěn)定性，并且制備過程中Ag層不會氧化，是保護(hù)層的理想材料。
　　本實驗以銀靶和鉭靶為靶材，N2為反應(yīng)氣體，室溫下采用射頻磁控濺射法在玻璃基片上沉積薄膜。運用紫外可見分光光度計（UV-VIS）、表面輪廓儀、傅里葉紅外光譜儀（FTIR）、X射線衍射（XRD）、場發(fā)射掃描電鏡（SEM）、X射線光電子能譜（XPS）等儀器對薄膜的各項性能進(jìn)行檢測分析。
　　實驗制備了TaNx薄膜，研究了Ta靶濺射功率、N2流量和濺射時間等工藝參數(shù)

3、對其光學(xué)性能的影響，并對其遠(yuǎn)紅外輻射率以及微觀結(jié)構(gòu)和表面成分進(jìn)行了研究。將TaNx薄膜用作低輻射薄膜的介質(zhì)層，設(shè)計了既有很好的光學(xué)性能和低輻射性能又具有很好穩(wěn)定性的TaNx/Ag/TaNx復(fù)合薄膜，研究了Ag膜濺射功率、Ta靶濺射功率、N2流量和薄膜厚度對復(fù)合膜光學(xué)性能以及穩(wěn)定性的影響，并對其遠(yuǎn)紅外輻射率以及復(fù)合膜的結(jié)構(gòu)和成分進(jìn)行了研究。
　　研究表明：TaNx具有優(yōu)異的光學(xué)性能，濺射功率為80W，N2流量50sccm，濺射時間為