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文檔簡介
1、燒結NdFeB磁體以其優(yōu)異的磁性能被廣泛應用于電子、計算機、汽車、機械、醫(yī)療器械等各個領域。但磁體易腐蝕的缺點限制了其進一步的應用。為了提高燒結NdFeB磁體的抗腐蝕性能,本文分別采用了磁控濺射和電子束蒸發(fā)的方法制備了磁體的防護層,并就磁場下磁體及其防護層的抗腐蝕性能進行了研究。
采用直流磁控濺射方法在燒結NdFeB磁體表面沉積純Al薄膜,研究了濺射氣壓、濺射功率和Al薄膜的厚度對薄膜的結構與性能的影響。隨著濺射氣壓的升高,A
2、l薄膜的沉積速率下降,薄膜表面變得疏松多孔,抗腐蝕性能逐漸下降;隨著濺射功率的增加,Al薄膜的沉積速率明顯增加,但Al顆粒排列雜亂疏松,薄膜的抗腐蝕性能下降;隨著膜厚的增加,Al薄膜表面變得致密光滑,直到膜厚超過6.69μm后,Al顆粒開始長大,薄膜變得粗糙,致密度降低。當膜厚為6.69μm時,Al薄膜具有優(yōu)異的抗腐蝕性能。直流磁控濺射制備Al薄膜的最佳工藝參數是:濺射氣壓0.5Pa,濺射功率51W,薄膜厚度6.69μm。
采
3、用電子束蒸發(fā)方法在燒結NdFeB磁體表面沉積Al2O3防腐層,研究了Al2O3薄膜的厚度及沉積速率對薄膜的抗腐蝕性能的影響,并與電子束蒸發(fā)制備的Al薄膜進行對比。Al2O3薄膜能在一定程度上提高NdFeB的耐蝕性能。隨著膜厚的增加,Al2O3薄膜的抗腐蝕性能并無明顯提高,但適當提高沉積速率,可顯著提高薄膜的抗腐蝕性能。
為了進一步了解燒結NdFeB及其防護層在實際應用中的抗腐蝕性能,對磁體及其防護層在磁場作用下的腐蝕行為進行了
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