基于RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的離子束拋光去除函數(shù)算法研究.pdf

1、隨著科學技術(shù)不斷地發(fā)展進步，光學、微電子、天文學等領(lǐng)域的研究工作對超光滑表面的需求量日益增加，對關(guān)鍵零部件表面的面形精度亦有著越來越高的要求，甚至需要其達到亞納米級的精度。正是由于這種需求促使超精密加工技術(shù)得以迅猛發(fā)展，從而使得擁有獨特優(yōu)勢的離子束拋光技術(shù)也應(yīng)運而生。該技術(shù)是基于原子濺射理論的一種先進技術(shù)，它能夠?qū)崿F(xiàn)對光學元件表面材料的原子量級上的無應(yīng)力及非接觸式的拋光加工。本論文主要對離子束拋光工藝中的去除函數(shù)進行了重點研究，建立了去

2、除函數(shù)理論模型，并對去除函數(shù)的模型加以修正從而使其模型估計精度得到提高。根據(jù)已建立的去除函數(shù)模型，結(jié)合離子束拋光工藝加工的原理，可以計算出待加工點的駐留時間，并通過計算機控制完成最終所需的高精度面形的加工。本論文從形成去除函數(shù)的離子束方面出發(fā)，以Ar+刻蝕石英玻璃（SiO2）為研究模型，主要進行了以下幾方面內(nèi)容的研究：
　?。?）離子束特性的研究：對離子束拋光工藝中的物理濺射原理和濺射產(chǎn)額進行了相關(guān)的研究。濺射產(chǎn)額主要會受到入射的

3、離子種類、離子束的入射角度、離子束能量等工藝參數(shù)的影響。通過濺射實驗獲取相關(guān)數(shù)據(jù)，使用MATLAB軟件對獲得的數(shù)據(jù)進行仿真實驗，得出相關(guān)工藝參數(shù)與濺射產(chǎn)額之間的關(guān)系。
　　（2）去除函數(shù)模型的研究：對均勻離子束轟擊下光學元件表面的刻蝕速率加以研究，并且建立了離子束去除函數(shù)的數(shù)學模型。通過該數(shù)學模型可知，離子束的去除函數(shù)會受濺射產(chǎn)額的影響，為了能夠?qū)崿F(xiàn)對去除函數(shù)多角度控制的功能，需要建立離子束的入射角度和濺射產(chǎn)額之間的相互關(guān)系。我們