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1、采用雙離子束濺射技術(shù),通過(guò)對(duì)由Si、SiO<,2>以及Al、Si和SiO<,2>組成的復(fù)合靶的濺射制備出Si-SiO<,2>以及Al-Si-SiO<,2>薄膜.其中鋁、硅在薄膜中的含量可分別通過(guò)改變靶面上鋁、硅所占的表面積來(lái)調(diào)節(jié).通過(guò)對(duì)上述薄膜的PL、PLE以及EL的分析,研究了此類薄膜中所存在的缺陷及發(fā)光中心,以及結(jié)構(gòu)對(duì)發(fā)光的影響.著重討論了摻鋁對(duì)薄膜電致發(fā)光的啟動(dòng)電壓、發(fā)光強(qiáng)度、發(fā)光效率的影響.用XRD,TEM,XPS等測(cè)試手段對(duì)薄
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