已閱讀1頁(yè),還剩69頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀
版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、該文研究了不同溫度的熱處理,中子輻照缺陷對(duì)微氮硅單晶的電學(xué)性能的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明在450-1050℃的溫度范圍內(nèi),中子輻照樣品通過(guò)2小時(shí)以上的熱處理可以明顯降低樣品的電阻率,輻照缺陷能夠顯著增加硅片載流子的濃度.該文通過(guò)傅立葉紅外轉(zhuǎn)變光譜對(duì)中子輻照微氮直拉硅單晶中的微缺陷的形成變化及其熱穩(wěn)定性進(jìn)行了研究.隨著熱處理溫度的提高,輻照缺陷由A中心逐漸轉(zhuǎn)變成VO<,2>和V<,2>O復(fù)合體,在進(jìn)一步的熱處理后,VO<,2>復(fù)合體繼續(xù)吸收氧原
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 摻鍺對(duì)直拉硅單晶材料及器件抗快中子輻照性能的影響.pdf
- 快中子輻照直拉硅輻照缺陷的研究.pdf
- 微氮直拉硅單晶的機(jī)械性能研究.pdf
- 電子輻照直拉硅輻照效應(yīng)的研究.pdf
- 快中子輻照直拉硅的電學(xué)性能及輻照缺陷研究.pdf
- 高能粒子輻照單晶硅輻照效應(yīng)的研究.pdf
- 電子輻照直拉硅單晶中空位相關(guān)缺陷的紅外吸收光譜研究.pdf
- 45633.大劑量中子輻照單晶材料的特性研究
- 直拉硅單晶中微缺陷演變的相場(chǎng)模擬研究.pdf
- 氮和鍺對(duì)直拉硅單晶機(jī)械性能的影響.pdf
- 直拉硅單晶生長(zhǎng)Cusp磁場(chǎng)的研究.pdf
- 直拉硅單晶的快速熱處理(RTP)研究.pdf
- 摻鍺直拉硅單晶中缺陷的研究.pdf
- 直拉硅單晶中氧沉淀的熟化.pdf
- 直拉硅單晶壓痕位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng).pdf
- 快中子輻照直拉硅中氧沉淀及誘生缺陷研究.pdf
- 納米晶Al的制備及其快中子輻照效應(yīng)研究.pdf
- 直拉硅單晶的氧沉淀及內(nèi)吸雜的研究.pdf
- 硅單晶中氮擴(kuò)散的研究.pdf
- Co與Cu摻雜的ZnO以及ZnO單晶的快中子輻照損傷研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論