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文檔簡介
1、本論文對(duì)一種新型的、能適用于強(qiáng)激光紫外波段的、高閾值紫外金屬/介質(zhì)多層高反射薄膜進(jìn)行研究,研究其光學(xué)性質(zhì)和引起激光損傷的原因。 首先通過編寫薄膜溫度場計(jì)算程序,模擬分析了K9/Al(HfO2/SiO2)^6/air、K9/(HfO2/SiO2)^3Al(HfO2/SiO2)^3/air,K9/Al(ZrO2/SiO2)^6/air,K9/(ZrO2/SiO2)^3Al(ZrO2/SiO2)^3/air多層高反射薄膜在激光輻照下不
2、同時(shí)間的溫度場變化。計(jì)算表明:G/M(HL)^6/air膜系的兩種紫外金屬/介質(zhì)多層高反射膜能滿足用于強(qiáng)激光領(lǐng)域要求的光學(xué)性質(zhì)和激光損傷閾值,而G/(HL)^3M(HL)^3/air膜系,K9/(ZrO2/SiO2)^3Al(ZrO2/SiO2)^3/air多層高反射薄膜能應(yīng)用在強(qiáng)激光領(lǐng)域,但K9/(HfO2/SiO2)^3Al(HfO2/SiO2)^3/air薄膜在強(qiáng)激光輻照下容易損傷。 其次,采用電子束蒸發(fā)沉積方法鍍制了K9
3、/Al(HfO2/SiO2)^6/air多層高反射薄膜。薄膜比較致密、均勻,相鄰兩層之間的界面比較平整。鍍上紫外/金屬介質(zhì)高反射薄膜后,基片的粗糙度相對(duì)改善。粗糙度越小的樣品反射率最大,波長更向紅外方向漂移,在紫外區(qū),反射率最高的位置和266nm波長位置更接近。薄膜吸水后,反射光譜向短波方向漂移而且反射率下降;樣品脫水后光學(xué)性質(zhì)恢復(fù)到原狀。用分光光度計(jì)在小角度入射條件下測量薄膜反射率時(shí),發(fā)現(xiàn)與零角度入射相比,薄膜反射光譜向長波方向漂移、
4、反射率較低;而在大角度測量時(shí),反射光譜向短波方向漂移、反射率相對(duì)較高?;穸纫欢〞r(shí),薄膜應(yīng)力隨鋁層厚度的增加而增大,可從壓應(yīng)力逐漸變成張應(yīng)力。對(duì)薄膜的激光損傷進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn):在高能激光輻照下引起損傷的原因可能是吸收、激光干涉、節(jié)瘤種子和應(yīng)力等。 最后,采用電子束蒸發(fā)沉積的方法制備了ZrO2單層介質(zhì)薄膜,研究了沉積條件對(duì)其光學(xué)性質(zhì)和損傷閾值的影響,發(fā)現(xiàn):在相同基底不同基底溫度下,ZrO2薄膜的折射率和消光系數(shù)隨基底溫度升高而增大,
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