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文檔簡介
1、光刻機是現(xiàn)在生產(chǎn)集成電路所用的最主要的專用設備,其采用一種光腐蝕技術將所需要的電子元器件刻在半導體硅片上。集成電路隨著計算機和信息技術的要求而不斷發(fā)展,其功率消耗越來越低,集成度不斷增大,制程工藝也就相應日益精密,從當初的微米級發(fā)展到現(xiàn)在的幾十納米,這就給光刻機的發(fā)展帶來了巨大的挑戰(zhàn)。為打破發(fā)達國家在集成電路這一行業(yè)的壟斷,我國開始大力加強光刻機的發(fā)展。
本文以光刻機精密工件臺和掩膜臺為主要研究對象,對其專用運動控制卡設計以及
2、同步控制理論方面做了一定的研究。本課題在光刻機控制系統(tǒng)方面采用的是國際上精密設備比較常用的方式:工控機結合專用運動控制卡??刂瓶ㄅc工控機通信總線采用的是傳輸速度快、運行可靠的VME總線??刂瓶ㄓ布O計方面充分考慮系統(tǒng)控制精度、響應速度、實時性以及成本等要求,進行芯片選型和電路設計。主要控制核心采用TI公司的DSP TMS320F2812,VME總線接口芯片采用的是 SCV64,為了避免通信時發(fā)生擁堵現(xiàn)象,兩者之間的數(shù)據(jù)緩沖采用雙口 RA
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