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1、本文主要研究工藝參數(shù)對(duì)制備立方氮化硼的影響,立方氮化硼的光學(xué)性質(zhì)和退火相變機(jī)理。 用磁控濺射法制備六角氮化硼薄膜,在襯底溫度、襯底偏壓、工作氣壓等條件一定的情況下改變工作氣體(氮?dú)夂蜌鍤?中氮?dú)獾谋壤?以制備高質(zhì)量的六角氮化硼薄膜,薄膜以紅外吸收光譜標(biāo)識(shí)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,工作氣體中氮?dú)獾谋壤龑?duì)制得的六角氮化硼薄膜有很大影響,在氮?dú)獗壤秊?0％時(shí)得到理想的六角氮化硼薄膜根據(jù)Si片上BN薄膜的反射光譜R(λ),利用matlab6.5編
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