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文檔簡(jiǎn)介
1、本文首先追溯了磁記錄技術(shù)和微磁學(xué)的發(fā)展歷史及現(xiàn)狀,接著調(diào)研了軟磁薄膜磁頭材料的研究現(xiàn)狀及其發(fā)展趨勢(shì),介紹了微磁學(xué)模擬出現(xiàn)的客觀需要及其重要地位。對(duì)微磁學(xué)的基本理論及基本模型給出了一個(gè)簡(jiǎn)單介紹。結(jié)合本實(shí)驗(yàn)室研究的基礎(chǔ)和已有成果對(duì)FeCo和FeAlN薄膜的磁導(dǎo)率的高頻響應(yīng)進(jìn)行了微磁學(xué)模擬。 由于可用于超高密度磁記錄寫磁頭和TMR與GMR的主要組成部分的良好前景,高飽和磁感應(yīng)強(qiáng)度FeCo和FeAlN薄膜材料吸引了越來越多的注意。為了給
2、寫磁頭的設(shè)計(jì)及材料性能的選取提供一些理論參考,我們對(duì)不同材料和同種材料在不同條件下的高頻響應(yīng)分別進(jìn)行了微磁學(xué)模擬。 我們?cè)谠敿?xì)分析軟磁薄膜各向異性場(chǎng)形成機(jī)理的基礎(chǔ)上,采用隨機(jī)各向異性模型,選取交換長(zhǎng)度尺度上的團(tuán)簇來代替納米晶粒作為微磁學(xué)研究的基本單元。模型中仔細(xì)考慮了薄膜內(nèi)的靜磁相互作用。 我們首先對(duì)FeCo和FeAlN薄膜靜態(tài)磁特性作了微磁學(xué)研究,在模擬數(shù)據(jù)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果較好符合的基礎(chǔ)上,對(duì)FeCo和FeAlN薄膜在宏觀尺
3、度下的高頻響應(yīng)進(jìn)行了比較研究,在高頻響應(yīng)的微磁學(xué)模擬工作中,我們選取了非常寬的頻率范圍,模擬結(jié)果證實(shí)了初始磁導(dǎo)率與各向異性場(chǎng)成反比的性質(zhì)。 由于應(yīng)用于微磁器件(如單極寫磁頭極尖,MRAM單元自由層)的薄膜材料尺寸非常小,所以我們對(duì)薄膜材料在介觀下的高頻響應(yīng)進(jìn)行了微磁學(xué)模擬研究。對(duì)上述兩種薄膜材料的微磁學(xué)研究表明: 1.模擬得到的兩種薄膜的宏觀靜態(tài)磁特性與實(shí)驗(yàn)結(jié)果符合的比較好。在此基礎(chǔ)上模擬了FeAlN,F(xiàn)e65Co35和
4、Fe75Co25薄膜的高頻響應(yīng)特性,并與理論上的公式計(jì)算結(jié)果和實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了對(duì)比研究。 2.在研究介觀下的材料性質(zhì)時(shí),選取了三種不同的單元形式來進(jìn)行比較分析,對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)寬比(AspectRatio)分別為1,2,4,結(jié)果發(fā)現(xiàn)在比值為1時(shí)結(jié)果最好。 3.在研究介觀下的材料性質(zhì)時(shí),選取了“渦漩”模式和“梯形”模式,結(jié)果發(fā)現(xiàn)“梯形”磁疇的初始磁導(dǎo)率要高于“渦漩”磁疇。而且相比之下,“梯形”磁疇的高頻響應(yīng)曲線要平滑的多,這就表明“
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