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1、本文首先用理論分析及數(shù)值模擬兩種方式對(duì)于光學(xué)薄膜的場(chǎng)損傷的微觀機(jī)制進(jìn)行了研究,然后對(duì)光學(xué)薄膜中的駐波場(chǎng)問(wèn)題進(jìn)行了討論。 文章的主要結(jié)構(gòu)如下: 第一章:主要概述了目前國(guó)內(nèi)外對(duì)于在光學(xué)薄膜損傷的研究概況。 第二章:介紹了光學(xué)薄膜損傷的基本理論。包括損傷的定義,薄膜損傷的理論模型,提高薄膜損傷閾值的幾種處理方法等。 第三章:分析了薄膜對(duì)激光能量吸收的微觀機(jī)制,描述了薄膜損傷的微觀過(guò)程。在此過(guò)程中,我們用量子力學(xué)
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