紅外連續(xù)波激光輻照下光學薄膜元件的熱吸收特性研究.pdf

1、本文采用表面熱透鏡技術，對3.8μm激光和2.8μm激光輻照下鍍制在Si基底上的單層ZnS、YbF3、YBC薄膜，不同膜系的YbF3/ZnS多層分光膜和多層高反膜，以及鍍制在CaF2基底上的增透膜進行了吸收測量，并對3.8μm激光和2.8μm激光的測量結果進行了比較分析。此外，還對3.8μm激光輻照下，光學薄膜元件的溫度場和熱應力進行了定量分析。論文的主要工作包括： 1.建立了光學薄膜溫度場的基本理論，利用交替隱型技術，對3.8μm

2、 DF激光輻照下高反射薄膜的溫度場分布進行了數(shù)值模擬和理論分析。 2.基于熱傳導方程與熱彈方程，采用有限元分析法，利用MSC.Marc有限元分析軟件建立了激光輻照下光學薄膜基底的溫度場與熱應力的三維模型，研究了光學薄膜基底在高斯光束和環(huán)狀高斯光束輻照下的溫度場與熱應力分布。 3.建立了表面熱透鏡技術測量光學薄膜微弱吸收的實驗裝置，分別在3.8μm激光和2.8μm激光輻照下，對多種光學薄膜樣品的微弱吸收進行了測量，并對3.8μm激