NiFeSiMn-Mo-Cu-NiFeSiMnMo多層膜的非線性巨磁阻抗效應(yīng).pdf_第1頁(yè)
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1、近年來(lái),巨磁阻抗效應(yīng)的發(fā)現(xiàn)及其在磁傳感器、磁記錄頭等方面可喜的應(yīng)用前景引起了科學(xué)家的廣泛興趣。到目前為止,研究主要集中在Co基非晶和Fe基納米晶材料,關(guān)于Ni基的坡膜合金有少量的報(bào)到。最近研究表明,由軟磁合金層包覆著高導(dǎo)電率金屬層的多層膜在GMI效應(yīng)方面同單層膜相比具有頻率低、變化率大的優(yōu)點(diǎn),成為研究GMI效應(yīng)的一種新型結(jié)構(gòu)。我們研究了單層膜的磁特性,在基底的橫向施加了400Oe的磁場(chǎng),提高了膜的各向異性。在真空條件下290℃加15Oe

2、磁場(chǎng)退火4小時(shí)后,樣品軟磁性能得到較大改善。比較了退火前后的磁滯曲線和X射線衍射,得出了退火后樣品的磁特性明顯好于制備態(tài)的、矯頑力小、起始磁化率也好、飽和磁化強(qiáng)度高。我們研究用蒸鍍法制備NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多層膜的巨磁阻抗效應(yīng),在502nm厚的Si片上鍍膜,經(jīng)過(guò)290℃退火4小時(shí)后,得到GMI效應(yīng)優(yōu)異的多層膜。研究了GMI效應(yīng)和頻率的關(guān)系,頻率分部從100Hz到13MHz,GMI比開(kāi)始隨著頻率的增加而增加,在

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