氫化非晶碳（a-C：H）薄膜的微結構與其血液相容性的研究.pdf

1、采用磁過濾真空濺射離子沉積系統(tǒng)制備含氫的非晶碳(a-C：H)薄膜，研究襯底偏壓、微結構與其血液相容性的關系，以及退火對其性能的影響。c采用磁過濾真空離子濺射沉積系統(tǒng)，制備氫化非晶碳(a-C：H)薄膜，通過調節(jié)襯底偏壓，改變沉積離子的能量，從而改變薄膜的微結構，得到sp3/sp2C比例不同的薄膜。然后選擇sp3C含量最高的-20V樣品進行不同溫度和時間的退火處理，以便研究襯底偏壓和退火處理對薄膜微結構和血液相容性的影響。 a-C：

2、H薄膜的微結構和sp2、sp3含量分別通過紫外-可見吸收光譜(UV)、拉曼光譜(Raman)和電子能量損失譜(EELS)作定性和定量分析。血液相容性通過動態(tài)凝血實驗、血小板粘附實驗、凝血酶原時間測定實驗進行評估。實驗結果表明，襯底偏壓是決定a-C：H薄膜中sp2、sp3含量的關鍵因素，也同樣影響著薄膜的血液相容性。-20V偏壓下制備的薄膜中sp3含量最高，血液相容性也最好。 退火對a-C：H薄膜性能的影響是通過紫外-可見吸收光譜