酞菁氯化銦的合成及其在光敏電阻中的應(yīng)用研究.pdf

1、本文采用共沸去水法制備無(wú)水三氯化銦。使用溶劑法以無(wú)水三氯化銦與酞菁素為原料反應(yīng)合成了酞菁氯化銦，確定了最佳合成工藝條件：使用鄰二氯苯為溶劑，酞菁素與三氯化銦的摩爾比為3．5：1，在氮?dú)獗Ｗo(hù)下維持溫度180℃反應(yīng)5h，收率42.9％。使用固相法以尿素、鄰苯二甲酸酐和四水合三氯化銦為原料反應(yīng)合成了酞菁氯化銦，確定了最佳合成工藝條件：尿素、鄰苯二甲酸酐和四水合三氯化銦的摩爾比為14：4.5：1，以乙酸鈉為催化劑，在130℃保溫0.5h后，維持

2、溫度220℃反應(yīng)4h，收率71.2％。采用紅外吸收光譜分析了產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)。測(cè)得產(chǎn)物在濃硫酸中的紫外-可見(jiàn)-近紅外光譜分別在228nm、433nm、836nm附近有強(qiáng)吸收峰。X-射線衍射分析表明合成粗品酞菁氯化銦的晶型為α型。紅外吸收光譜表明經(jīng)過(guò)88％硫酸提純后的酞菁氯化銦沒(méi)有銦離子的脫落。在水-鄰二氯苯(V水：V鄰-氯苯=4：1)中對(duì)提純后產(chǎn)品進(jìn)行溶劑處理，X-射線衍射譜圖分析表明溶劑處理后的酞菁氯化銦的的晶型為β型。 使用溶液浸

3、漬法在氧化錫銦(ITO)玻璃表面制備了酞菁氯化鋼光敏電阻薄膜，大大簡(jiǎn)化了光敏電阻的成膜操作。對(duì)光敏電阻薄膜的制備工藝進(jìn)行了研究，討論了對(duì)電極材料、浸漬液的成分、超聲波震蕩時(shí)間、浸漬次數(shù)、電荷傳輸層及復(fù)合材料對(duì)厚度和靈敏度的影響。對(duì)制得的酞菁氯化鋼光敏電阻薄膜進(jìn)行了表征，原子力顯微鏡分析測(cè)得薄膜的表面粗糙度為2.492nm，環(huán)境掃描電子顯微鏡分析測(cè)得薄膜的顆粒粒徑在10～300nm之間，與傳統(tǒng)方法的數(shù)據(jù)相當(dāng)。制得的酞菁氯化銦光敏電阻的積分