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文檔簡介
1、隨著4G通信時代的到來以及5G通信的提出,移動通信技術以及移動通信設備發(fā)生著翻天覆地的變化。移動通信的信號傳輸頻率與傳輸速率的不斷的提高,要求移動通信印制電路板中的精細線路具有規(guī)整的形狀以及平滑的表面;移動通信設備體積的不斷減小以及IC半導體器件I/O接口的增多要求印制電路板中精細線路的密度越來越高。
本文首先研究了減成法制作工藝對蝕刻參數進行了優(yōu)化,以蝕刻因子和側蝕量作為實驗指標,抗蝕層厚度,線路銅層的厚度,蝕刻液的噴淋壓力
2、作為實驗因素進行正交實驗對蝕刻因素進行優(yōu)化,獲得了減成法蝕刻過程中的最佳參數。在最佳參數下,最大的蝕刻因子為4.90,最小的側蝕量為1.98μm。這一結果能夠滿足4G移動通信印制電路板的需求,然而隨著5G通信的到來,移動通信印制電路板的精細線路發(fā)展到35μm以下,減成法不能滿足這樣精細的線路制作要求,新的精細線路制作方法成為移動通信發(fā)展的必然。
通過比較,半加成法是移動通信印制電路高密度精細線路的理想制作方法。針對半加成法種子
3、層基材結合力不好或者沉積成本太貴的缺點,本文提出了以鎳作為種子層的新型半加成法。
化學鍍鎳的沉積速率影響生產效率,本文采用單因素實驗優(yōu)化了化學鍍鎳的沉積速率,得到最優(yōu)的參數為:活化時間15分鐘,主鹽的濃度為25g/L,還原劑的濃度為35g/L,鍍液pH值為8.5,施鍍溫度為85℃。
選擇型號為SZ-1235的杜邦干膜作為抗電鍍干膜;選取電流密度為0.8A/dm2,電鍍時間為120分鐘;選擇厚度為2μm的化學鎳層作為種
4、子層,快速蝕刻時間選擇為2分鐘。在鎳層上制作精細線路后用金相顯微鏡、掃描電子顯微鏡、剝離強度測試檢測了精細線路的結果。檢測發(fā)現,線路的表面和側面平整光潔,線路層與基材之間結合緊密,線路截面形狀非常規(guī)整,計算線路的蝕刻因子,各組精細線路的蝕刻因子基本能達到8以上。精細線路的剝離強度測試結果都滿足IPC(Institute of Printed Circuits,印制電路協(xié)會)的品質要求。
對比減成法和普通半加成法,本實驗制作的精
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