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文檔簡介
1、減反射涂層能有效降低基材對入射光線的反射率,提高光的利用效率,因此在能源、光學成像以及軍事隱形等領域具有廣泛的應用前景?,F(xiàn)有的減反射涂層多采用“蝕刻”、選擇性溶劑溶解以及無機粒子堆積等方法制備。這些方法存在制備效率低、對基材選擇性高以及涂層結(jié)構(gòu)和性能不穩(wěn)定等不足。
論文提出和研究了一種基于交聯(lián)結(jié)構(gòu)聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)與聚丙烯酸丁酯(PBA)共混膠乳制備減反射涂層的新方法?;旌夏z乳烘焙成膜時,交聯(lián)結(jié)構(gòu)的PMMA膠乳仍保持
2、球狀形貌,借助成膜的PBA膠乳粘附于基材表面,共同組成減反射涂層。涂層內(nèi)的PMMA粒子間填充空氣,使涂層的折光指數(shù)大大降低,從而可有效減少基材對光的反射率。就此設想,論文第二章采用乳液聚合技術,通過對乳化劑組成及濃度的調(diào)控等制備了不同粒徑的PMMA膠乳和PBA膠乳。之后,第三章探究了混合膠乳中PMMA與PBA質(zhì)量比、PBA膠乳粒徑以及混合膠乳涂層液含固量對涂層減反射性能的影響;考察了已有涂層減反射理論對混合膠乳涂層的適用性,并提出了混合
3、膠乳減反射涂層的新模型;進而在第四章和第五章探究了PMMA乳膠粒粒徑對涂層減反射性能的影響,并考察了涂層的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。研究表明:
1.混合膠乳中PMMA與PBA質(zhì)量比對涂層減反射性能的影響:減反射效率隨PMMA∶PBA質(zhì)量比的增高而增大,當質(zhì)量比高于97∶3后,不再明顯改變;
2.涂層的減反射性能受PBA(DPBA)和PMMA(DPMMA)粒徑的共同影響:
(1)隨DPBA的減小,涂層內(nèi)PMMA粒子間距減小
4、,入射光的散射降低,當DPBA<85nm(=400/(1.49π))時,可見光區(qū)小波長處散射光強明顯減小;
(2)增大涂層液含固量,涂層內(nèi)PMMA粒子面密度增大,直至粒子層疊;PMMA單層排列時,其對基材表面的最大覆蓋率Smax=78.54%,基于有效介質(zhì)理論得到的涂層折光指數(shù)為1.23,最大透射率處的波長λmax=4*1.23*DPMMA;
(3)當PMMA對基材表面的覆蓋率S小于78.54%時,雖然涂層的折光指數(shù)
5、及最大透射率數(shù)值減小,但λmax不變,仍等于4*1.23*DPMMA,表明涂層的減反射行為不再遵循Fresnel均質(zhì)結(jié)構(gòu)減反射涂層模型;
(4)提出S小于78.54%時混合膠乳涂層減反射行為的新模型為:增透率等于最大增透率與S/Smax的乘積,即△T/△ Tmax=S/Smax。
(5)混合膠乳涂層的結(jié)構(gòu)及增透穩(wěn)定性高,可耐20次180°彎折;
3.論文還研究了兩種粒徑PMMA與PBA共混膠乳涂層的減反射行
6、為。其中,DPBA=55nm,DPMMA,B=134nm,DPMMA,Sm分別為:54nm、84nm和112nm,研究表明:
(1)涂層的增透曲線兼具PMMA,B與PMMA,Sm的增透特性,但僅當DPMMA,B與DPMMA,Sm相近時(DPMMA,B=134nm,DPMMA,Sm=112nm),增透曲線才可由PMMA,B和PMMA,Sm的曲線加和得到;
(2)隨著PMMA,B與PMMA,Sm個數(shù)比NB/Sm的增大,在
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