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文檔簡介
1、以CF<,4>和C<,6>H<,6>混合氣體作為源氣體,在微波電子回旋共振化學(xué)氣相沉積（ECR-CVD）裝置中制備了氟化非晶碳薄膜（a-C：F）,并在N<,2>氣氛中作了退火處理以考察其熱穩(wěn)定性.使用臺階儀測量了退火前后薄膜的厚度;用紫外可見分光光度計（UV-VIS）測量了薄膜的透光譜,進(jìn)而計算了光學(xué)帶隙;利用傅立葉變換紅外光譜儀（FTIR）和X射線光電子能譜儀（XPS）分析了薄膜的化學(xué)鍵和結(jié)合態(tài);使用低頻阻抗測試儀測量了薄膜的電容和損
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