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文檔簡介
1、利用磁控濺射工藝制備納米Al/MoOx薄膜,借助FESEM、AFM、XRD、XPS和DSC分析薄膜性質(zhì)。結(jié)果表明:所制備的納米Al/MoOx薄膜表面平整,層狀結(jié)構(gòu)清晰,層與層之間連接緊密,成膜質(zhì)量好;納米Al/MoOx薄膜中的Al以正方晶系存在,MoOx以非晶或弱的多晶狀態(tài)存在,其組分包括:MoO3、Mo2O5和MoO2;納米Al/MoOx薄膜的DSC曲線有兩個(gè)放熱峰,總反應(yīng)放熱量為3524J/g(達(dá)到理論放熱量的75%),高出微米級(jí)厚
2、度的Al/MoOx薄膜放熱量40.5%。
采用磁控濺射和反轉(zhuǎn)剝離工藝將納米Al/MoOx薄膜集成于SCB,制備出含能半導(dǎo)體橋SCB-Al/MoOx。在SCB-Al/MoOx腳線間并聯(lián)NTC熱敏電阻,可提高其抗射頻能力。選用47μF固體鉭電容作為發(fā)火激勵(lì)源,測試SCB-Al/MoOx與普通SCB之間的電爆性能差異。結(jié)果表明:SCB-Al/MoOx的電阻、臨界發(fā)火時(shí)間及臨界發(fā)火能量與普通SCB相比,無明顯差異;電容作用總時(shí)間、作用
3、總能量由于受到薄膜反應(yīng)放出的熱量影響,與普通SCB相比,明顯減小;相同激勵(lì)條件下,SCB-Al/MoOx的電容輸入能量利用率低于普通SCB,但由于薄膜發(fā)火釋放出大量熱,其輸出能量效率高于普通SCB;SCB-Al/MoOx發(fā)火時(shí)生成的等離子體溫度、發(fā)火持續(xù)時(shí)間、火焰高度和火焰面積均大于普通SCB;當(dāng)自支撐Al/Ni薄膜與橋區(qū)存在一定間隙時(shí),相同激勵(lì)條件下,普通SCB不能點(diǎn)燃封裝于其上的Al/Ni薄膜,而SCB-Al/MoOx可以可靠的點(diǎn)燃
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