直邊衍射場沉積鉻原子三維特性分析.pdf

1、原子光刻是通過激光駐波場會聚原子沉積光柵得到具有周期性的納米量級條紋的技術(shù)。由于沉積基片的存在，會在激光駐波場內(nèi)產(chǎn)生衍射現(xiàn)象，影響激光駐波場內(nèi)光強分布，導致沉積納米光柵結(jié)構(gòu)發(fā)生變化。因此，探討激光駐波場會聚原子過程中沉積基片的衍射影響具有重要意義。
　　本文基于半經(jīng)典模型分析了直邊衍射擾動下激光駐波場沉積鉻原子三維運動軌跡及沉積特性，并從半高寬與對比度入手對沉積光柵進行研究。通過探討不同衍射模型確定基片產(chǎn)生衍射為直邊衍射，并對直邊

2、衍射場進行分析，建立了直邊衍射擾動下激光駐波場模型，通過四階Runge-Kutta算法，對直邊衍射擾動下鉻原子在駐波場中的三維運動軌跡及沉積效果進行仿真。
　　考慮到激光參數(shù)的影響，本文分析了激光功率與失諧量變化時，鉻原子在直邊衍射場中運動軌跡和沉積效果。從半高寬和對比度兩方面入手，對鉻原子沉積光柵結(jié)構(gòu)進行數(shù)值分析。結(jié)果表明：當激光功率為3.93mW，失諧量為200MHz時，原子沉積光柵的半高寬為6.04nm，對比度為0.863。