287-abstract-p-輝光放電光譜法定量分析金屬材料表面納米級(jí)薄膜的研究

1、保持頁(yè)眉空白，會(huì)議排版統(tǒng)一使用保持頁(yè)腳空白，會(huì)議排版統(tǒng)一使用輝光放電光譜法定量分析金屬材料表面納米級(jí)薄膜的研究張毅1，何曉蕾2，陳英穎1，鄔君飛1（1.寶鋼研究院上海201900；2.華東理工大學(xué)分析測(cè)試中心上海200237）摘要摘要本文主要介紹了利用輝光放電光譜法分析金屬材料表面的納米級(jí)薄膜。通過(guò)優(yōu)化輝光光源的放電參數(shù)，計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)樣品的濺射率。經(jīng)過(guò)濺射率校準(zhǔn)后，建立各分析元素分析強(qiáng)度和分析濃度的標(biāo)準(zhǔn)工作曲線，從而形成了納米級(jí)薄膜的定量表

2、面分析方法。鋁基復(fù)合氧化膜和易銹蝕冷軋板的分析實(shí)驗(yàn)證明，本方法對(duì)膜厚和元素濃度分布的測(cè)定具有良好的準(zhǔn)確性，可以應(yīng)用于多種金屬材料表面納米級(jí)厚度膜層的研究。關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞輝光放電光譜法納米級(jí)薄膜StudyofAnalysisofNanoFilmonMetalbyGlowDisgeOpticalEmissionSpectrometryZHANGYi，CHENYingying，WUJunfei（BaosteelResearchInstitute

3、，Shanghai，201900，China）HEXiaolei（TestingAnalysisCenter，EastChinaUniversityofScienceTechnology，Shanghai，200237，China）Abstract:Analysisofnanofilmonmetalsbyglowdisgespectrometrywasintroducedinthispaper.Throughoptimizingglow

4、disgesourceanalyticalparametercalculatingsputteringrateofreferencematerials，wecanobtainacalibrationcruve(massfractionversusdepth).Aquantitativedepthprofileanalyticalmethodwasestablished.Theanalyticalmethodwasprovedaccura

5、tepreciseinthicknessmeasurement.Thismethodcanbeappliedtoanalyzenanofilmonthesurfaceofdifferentmetalmaterials.Keywds:Glowdisgespectrometry，Nanofilm保持頁(yè)眉空白，會(huì)議排版統(tǒng)一使用保持頁(yè)腳空白，會(huì)議排版統(tǒng)一使用輝光放電光譜法定量分析金屬材料表面納米級(jí)薄膜的研究張毅1，何曉蕾2，陳英穎1，鄔君飛1（

6、1.寶鋼研究院上海201900；2.華東理工大學(xué)分析測(cè)試中心上海200237）摘要摘要本文主要介紹了利用輝光放電光譜法分析金屬材料表面的納米級(jí)薄膜。通過(guò)優(yōu)化輝光光源的放電參數(shù)，計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)樣品的濺射率。經(jīng)過(guò)濺射率校準(zhǔn)后，建立各分析元素分析強(qiáng)度和分析濃度的標(biāo)準(zhǔn)工作曲線，從而形成了納米級(jí)薄膜的定量表面分析方法。鋁基復(fù)合氧化膜和易銹蝕冷軋板的分析實(shí)驗(yàn)證明，本方法對(duì)膜厚和元素濃度分布的測(cè)定具有良好的準(zhǔn)確性，可以應(yīng)用于多種金屬材料表面納米級(jí)厚度膜層的

7、研究。關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞輝光放電光譜法納米級(jí)薄膜StudyofAnalysisofNanoFilmonMetalbyGlowDisgeOpticalEmissionSpectrometryZHANGYi，CHENYingying，WUJunfei（BaosteelResearchInstitute，Shanghai，201900，China）HEXiaolei（TestingAnalysisCenter，EastChinaUniversity

8、ofScienceTechnology，Shanghai，200237，China）Abstract:Analysisofnanofilmonmetalsbyglowdisgespectrometrywasintroducedinthispaper.Throughoptimizingglowdisgesourceanalyticalparametercalculatingsputteringrateofreferencematerial

9、s，wecanobtainacalibrationcruve(massfractionversusdepth).Aquantitativedepthprofileanalyticalmethodwasestablished.Theanalyticalmethodwasprovedaccuratepreciseinthicknessmeasurement.Thismethodcanbeappliedtoanalyzenanofilmont