太陽(yáng)能電池-制絨濕法刻蝕質(zhì)量問(wèn)題及處理方法

1、制絨質(zhì)量問(wèn)題：1、水片；出現(xiàn)原因：硅片在設(shè)備內(nèi)部過(guò)工藝時(shí)發(fā)生破碎，造成此道后繼的硅片出現(xiàn)連片；解決方法：將帶水的硅片取出，用純水清洗干凈，放在片盒中置于M07模組后面晾干，同時(shí)用干凈的無(wú)塵布將出現(xiàn)水片的的滾輪與卸載機(jī)械手的皮帶擦拭干凈，防止后繼干燥的硅片再次被滴落在設(shè)備上的水污染；將水片晾干后，M2循環(huán)泵停，再過(guò)一次氫氧化鉀與M6槽；2、黃斑片出現(xiàn)原因：多孔硅沒(méi)有去除干凈，M4槽的液位低浸沒(méi)不到硅片或者是M4槽的電導(dǎo)率低，或者氫氧化鉀量

2、不足造成解決方法：將出現(xiàn)問(wèn)題的硅片卡下，檢查設(shè)備有無(wú)問(wèn)題，電導(dǎo)率與藥液的濃度是否正確，同樣不過(guò)氫氟酸與硝酸，只過(guò)氫氧化鉀與M6槽3、亮片出現(xiàn)原因：出現(xiàn)亮片很多都是在做再利用時(shí)候出現(xiàn)，由于腐蝕量過(guò)多造成解決方法：將亮片卡下，作為不合格片上交二級(jí)庫(kù)；4、做再利用時(shí)出現(xiàn)水片的處理方法在做再利用時(shí)出現(xiàn)水片，切忌不能在M2循環(huán)泵沒(méi)關(guān)閉的情況下直接投入，否則會(huì)造成出現(xiàn)亮片5、腐蝕量不合格的硅片：（1）、腐蝕量低的硅片，上下表面可能會(huì)比較暗，感覺(jué)就像

3、擴(kuò)散后的硅片出現(xiàn)原因：M2槽內(nèi)藥液濃度低，帶速過(guò)高，溫度過(guò)低，液位不足等都有可能造成硅片腐蝕不足；解決方法：將出現(xiàn)問(wèn)題的硅片卡下，上交二級(jí)庫(kù)作為再利用片（2）、腐蝕量過(guò)高的硅片，可能會(huì)出現(xiàn)上下表面均有暗紋，并且暗紋很多；也有可能會(huì)出現(xiàn)發(fā)亮的硅片；出現(xiàn)原因：M2槽藥液濃度過(guò)高，帶速過(guò)低，溫度過(guò)高造成腐蝕量過(guò)高解決方法：將出現(xiàn)問(wèn)題的硅片卡下，上報(bào)跟班技術(shù)員；如果是硅片雙面制絨，可能是氫氟酸含量過(guò)多造成；如果是發(fā)亮的硅片可能是硝酸濃度過(guò)高造成

4、；6、白斑片，硅片表面有一塊快的白斑出現(xiàn)原因：可能是M2槽后的風(fēng)刀壓力太大，將藥液吹干成鹽造成解決方法：調(diào)整風(fēng)刀壓力7、水點(diǎn)片，當(dāng)硅片從M7出來(lái)后可能會(huì)帶有一些小水滴在上面出現(xiàn)原因：M7的風(fēng)刀沒(méi)有將硅片吹干解決方法：停機(jī)，檢查風(fēng)刀是否給堵塞住造成；濕法刻蝕工序其實(shí)一段時(shí)間以來(lái)，出了不少工藝上的問(wèn)題，主要體現(xiàn)在：?腐蝕量低；主要表現(xiàn)在：㈠維護(hù)完，新配藥液，沒(méi)有充分的激活，藥液里面的NO2離子不足，解決方法：可以放一些碎片在藥液槽內(nèi)進(jìn)行激活

5、，也可以將一些NaNO2放入藥液槽，增加藥液的活性，直到腐蝕量達(dá)到工藝要求，抑或是手動(dòng)去添加35L的HF去解決腐蝕量低的問(wèn)題，此種情況需要不斷的去測(cè)試腐蝕量，直到腐蝕量穩(wěn)定后，才能生產(chǎn)。㈡生產(chǎn)過(guò)程中，由于長(zhǎng)時(shí)間的停機(jī)，造成藥液槽酸液的揮發(fā)，造成腐蝕量與穩(wěn)定時(shí)的腐蝕量有一定的偏差，但是還可以繼續(xù)生產(chǎn)，具體恢復(fù)方法：手動(dòng)的去按一定配比添加藥液，可以按初始配槽的比例去添加，也可以按2：1的比例去添加HNO3、HF。?對(duì)于低腐蝕量的要求：雖然現(xiàn)

6、在工藝上沒(méi)有明確的規(guī)定，但是根據(jù)相關(guān)的經(jīng)驗(yàn)，必須保證腐蝕量能滿足邊緣電阻大于1千歐，才能保證一個(gè)比較低的漏電以及高的并阻。所以現(xiàn)規(guī)定:腐蝕量必須要在2.5μm以上，低于此值必須通知帶班長(zhǎng)，以及相關(guān)的技術(shù)人員，現(xiàn)行工藝若腐蝕量低于3μm一下，需通知班組長(zhǎng)，進(jìn)行調(diào)節(jié)。?連片的解決方法，以及如何判斷連片過(guò)程處理后，那些片可以轉(zhuǎn)下，那些片不可以轉(zhuǎn)下。處理方案，一般處理時(shí)間控制在10分鐘以內(nèi)（為了確保轉(zhuǎn)下去的硅片合格，可以抽測(cè)硅片的方阻，沒(méi)有問(wèn)題

7、再進(jìn)行轉(zhuǎn)下），重新開機(jī)后，硅片可以轉(zhuǎn)下，其中可能由于連片，片與片之間有接觸，造成正面的刻蝕（搭角的，或者手接觸正面的），這部分片為不合格，必須將這部分片子挑出當(dāng)后表面處理。?刻蝕后出現(xiàn)的黃斑邊緣：主要原因是酸腐蝕的產(chǎn)生的多孔硅，在經(jīng)過(guò)堿洗的時(shí)候，沒(méi)有接觸到藥液，抑或是藥液濃度太低，造成的多孔硅去除不干凈，留下黃色的邊緣痕跡。解決辦法：若液位太低，可以適當(dāng)?shù)奶岣哝I槽的泵速，提高液位，若電導(dǎo)率過(guò)低，就手動(dòng)的添加KOH提高其電導(dǎo)率，達(dá)到設(shè)定條

8、件。如果由于液位過(guò)低，但提高泵速仍沒(méi)有效果的話，可以直接判斷是濾芯堵了，需要停機(jī)對(duì)濾芯進(jìn)行清洗。?水片：風(fēng)刀風(fēng)機(jī)不夠，造成一些片子表面有水滴。處理方法：增大風(fēng)機(jī)風(fēng)量。?雙邊刻蝕的片子：由于轉(zhuǎn)盤的問(wèn)題，造成一些片子經(jīng)過(guò)轉(zhuǎn)盤的時(shí)候，沒(méi)有轉(zhuǎn)，只刻蝕了兩邊，此種硅片必須檢出，當(dāng)后表面處理。?對(duì)于上交表面不合格的片子方向問(wèn)題：上的硅片必須分清是蝕刻前還是蝕刻后的，必須使硅片的絨面一致，不能混放，亂放，造成再利用的時(shí)候，對(duì)工藝，對(duì)后續(xù)的工作增加了很