鋁微弧氧化膜的制備及其性能研究.pdf

1、本文采用單向脈沖電源在工業(yè)純鋁表面制備了微弧氧化陶瓷膜。微弧氧化陶瓷層與基體結(jié)合力好，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨性和耐蝕性，同時(shí)微弧氧化膜制備工藝簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境無(wú)污染，具有廣闊的應(yīng)用前景和深遠(yuǎn)的現(xiàn)實(shí)意義。 本文利用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、TR110袖珍粗糙度儀、覆層測(cè)厚儀、顯微硬度儀及點(diǎn)滴腐蝕試驗(yàn)和電化學(xué)測(cè)試等手段，系統(tǒng)地考察了微弧氧化膜制備工藝與膜層形成機(jī)理及性能之間的關(guān)系，重點(diǎn)考察了各工藝參數(shù)情況下膜層性

2、能的形成機(jī)理?？疾炝瞬煌娊庖后w系下的微弧氧化現(xiàn)象，研究對(duì)比了Na<,2>SiO<,3>電解液體系和NaAlO<,2>電解液體系下生成微弧氧化膜層的性能。兩種體系下生成的氧化膜均由α-Al<,2>O<,3>和γ-Al<,2>O<,3>相組成，Na<,2>SiO<,3>體系下形成的氧化膜中α-Al<,2>O<,3>相的含量更多：陶瓷膜表面有大量的類似火山口的等離子放電產(chǎn)物和明顯的放電通道，Na<,2>SiO<,3>電解液中形成的氧化膜放電

3、通道閉合得較好；恒電位極化可以看出微弧氧化陶瓷膜具有良好的耐蝕性，Na<,2>SiO<,3>體系下生成的氧化膜耐腐蝕性能更好一些。 研究了電流密度、脈沖占空比及頻率對(duì)微弧氧化膜性能的影響。隨電流密度的增加，α-Al<,2>O<,3>和γ-Al<,2>O<,3>相的含量隨之增加，陶瓷膜的硬度及粗糙度也隨之增加，厚度和耐蝕性先增大后減??；隨占空比的增大，陶瓷膜的厚度、硬度及粗糙度均隨之增加，占空比小于0.3時(shí)，腐蝕時(shí)間隨占空比的增大

4、而增加，占空比大于0.3時(shí)腐蝕時(shí)間略有減小，占空比為0.3時(shí)膜層的耐蝕性達(dá)到最佳：頻率對(duì)陶瓷膜的粗糙度和硬度影響較??；5000Hz頻率段下膜層的厚度最厚，耐蝕性達(dá)到最佳。 利用正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)對(duì)微弧氧化工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，考察電流密度、占空比、頻率及成膜劑濃度對(duì)膜層質(zhì)量的影響。對(duì)于厚度和硬度這兩個(gè)指標(biāo)來(lái)說(shuō)，電流密度的影響最大；對(duì)于膜層耐蝕性來(lái)說(shuō)，主成膜劑濃度對(duì)其影響較大；頻率和占空比對(duì)膜層質(zhì)量的影響相對(duì)較小，其中頻率的影響最?。壕C合比