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文檔簡介
1、NiCr合金在口腔環(huán)境中會(huì)釋放出Ni離子,引起使用安全性問題;為了提高NiCr合金的耐腐蝕性能,降低Ni離子的析出量,本論文采用微弧氧化技術(shù)在NiCr合金表面制備了低Ni含量的Al2O3膜層。利用SEM、EDS、XRD方法對膜層的表面形貌、截面形貌、元素含量以及相組成進(jìn)行了研究,通過拉伸試驗(yàn)、電化學(xué)測試技術(shù)、Ni離子析出試驗(yàn)分別研究了膜層的結(jié)合強(qiáng)度、耐腐蝕性能和膜層對Ni離子析出量的影響。
研究表明,在NaAlO2電解液中Na
2、AlO2濃度對微弧氧化膜層表面形貌影響較大;膜層表面 Ni元素含量為2~4at%;膜層主要以非晶態(tài)形式存在,含有少量的γ-Al2O3相組成,其衍射峰強(qiáng)度隨NaAlO2濃度的增加而增強(qiáng)。在NaAlO2-Na5P3O10電解液體系中Na5P3O10濃度對微弧氧化膜層表面形貌有較大影響;隨著反應(yīng)時(shí)間的延長,膜層的表面微孔數(shù)量減少,孔徑增大;膜層的厚度隨著Na5P3O10濃度的增加、正向電壓的升高和反應(yīng)時(shí)間的延長而增加;膜層表面Ni元素含量在4
3、~8at%;膜層主要由γ-Al2O3相組成,其衍射峰強(qiáng)度隨Na5P3O10濃度的增加、正向電壓的升高和反應(yīng)時(shí)間的延長而增強(qiáng)。
在NaAlO2電解液中制備的膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度隨著NaAlO2濃度的增加而增大,最大為14.6MPa;在12.3g/L NaAlO2-1g/L Na5P3O10電解液體系中,正向電壓為380V,反應(yīng)時(shí)間為30min,所得膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度為21.5MPa,過低或過高的Na5P3O10濃度、正向電壓,
4、加載負(fù)向電壓和過長的反應(yīng)時(shí)間均使膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度降低。
微弧氧化膜層提高了NiCr合金的腐蝕電位,對腐蝕電流密度影響不大,能夠抑制Ni離子的釋放。在12.3g/L NaAlO2-1g/L Na5P3O10電解液體系中,正向電壓為380V,反應(yīng)時(shí)間為30min,所得到的膜層與基體相比,其腐蝕電位提高了275mV,Ni離子析出量降低55%。過低或過高的 Na5P3O10濃度、正向電壓均使Ni離子的析出量增加;過長的反應(yīng)時(shí)間使N
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