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1、光刻技術(shù)及其在產(chǎn)業(yè)中的開發(fā)應(yīng)用一直是業(yè)界最關(guān)注的焦點(diǎn)之一。極紫外光刻成為了下一代光刻技術(shù)最有力的競爭者。然而,要實(shí)現(xiàn)商業(yè)化,必須先克服技術(shù)上難關(guān)。 光刻是大規(guī)模集成電路的制造過程中最為關(guān)鍵的工藝,光刻物鏡是光刻的核心,其性能直接決定了光刻的圖形傳遞能力。本文介紹了極紫外光刻光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)原理,提出一種五反射鏡的設(shè)計(jì)構(gòu)思,它在光學(xué)質(zhì)量、自由工作距離方面滿足極紫外光刻商業(yè)化的要求。為了實(shí)現(xiàn)這個設(shè)計(jì),文章對精密非球面加工和計(jì)算機(jī)輔助光
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