噪聲對(duì)大鼠耳蝸基底膜AIF表達(dá)的影響.pdf

1、實(shí)驗(yàn)一:建立噪聲性聽(tīng)力損傷動(dòng)物模型
　　1.目的
　　通過(guò)建立噪聲性聽(tīng)力損傷動(dòng)物模型,觀察噪聲對(duì)大鼠聽(tīng)性腦干反應(yīng)(auditorybrainstemresponse,ABR)閾值及耳蝸基底膜不同頻率區(qū)域外毛細(xì)胞形態(tài)學(xué)的影響,探討其對(duì)聽(tīng)覺(jué)系統(tǒng)的損傷作用。
　　2.方法
　　40只SD大鼠隨機(jī)分為正常對(duì)照組和噪聲暴露組:噪聲暴露組給予聲強(qiáng)為115dBSPL白噪聲暴露,每天2小時(shí),連續(xù)3天,對(duì)照組不予噪聲暴露。分別于噪

2、聲暴露前1日、暴露后1、3、7、14日對(duì)兩組大鼠行ABR檢測(cè),并用在最后一次ABR檢測(cè)后對(duì)兩組大鼠耳蝸基底膜行鬼筆環(huán)肽—異硫氰酸熒光素(Phalloidin-FITC)染色。
　　3.結(jié)果
　　大鼠噪聲暴露后與暴露前相比,ABR各頻率反應(yīng)閾值于暴露后1天達(dá)到最高,并隨時(shí)間的推移逐漸恢復(fù),14天時(shí)趨于穩(wěn)定,聽(tīng)力低頻閾移約10dB,高頻閾移有30dB(P<0.05);基底膜鋪片F(xiàn)ITC染色示噪聲暴露組底回基底膜毛細(xì)胞較頂回缺失嚴(yán)

3、重,且有纖毛排列紊亂并出現(xiàn)融合,而對(duì)照組毛細(xì)胞排列整齊,纖毛呈V或W型,兩組間外毛細(xì)胞計(jì)數(shù)比較差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)。
　　4.結(jié)論
　　在噪聲性聽(tīng)力損傷過(guò)程中,早期的聽(tīng)力損失存在暫時(shí)性閾移,在14天左右才趨于穩(wěn)定,出現(xiàn)永久性閾移,ABR結(jié)果提示氧化還原反應(yīng)亦在噪聲暴露后1天時(shí)最為激烈,且耳蝸基底膜高頻區(qū)域受到的氧化損傷較低頻區(qū)域更為嚴(yán)重,不易恢復(fù)。
　　實(shí)驗(yàn)二:噪聲對(duì)大鼠耳蝸不同頻率區(qū)域基底膜AIF表達(dá)的影

4、響
　　1.目的
　　探討噪聲暴露前后凋亡誘導(dǎo)因子(AIF)在大鼠不同回基底膜外毛細(xì)胞的表達(dá)差異以及與噪聲性聾高頻聽(tīng)力易損性的關(guān)系。
　　2.方法
　　40只SD大鼠隨機(jī)分為正常對(duì)照組和噪聲暴露組:噪聲暴露組給予聲強(qiáng)為115dBSPL白噪聲暴露,每天2小時(shí),連續(xù)3天,對(duì)照組不予噪聲暴露,其余條件與噪聲暴露組相同。并于噪聲暴露完成后次日,行耳蝸基底膜取材及鋪片制備,分別采用RT-qPCR、Westernblot和免

5、疫熒光染色方法,從定性及定量角度觀察兩組大鼠耳蝸不同回基底膜處AIF的表達(dá)。
　　3.結(jié)果
　　免疫熒光染色顯示,正常組中AIF在頂、底回基底膜外毛細(xì)胞胞漿中均有表達(dá),細(xì)胞核中無(wú)表達(dá),噪聲暴露組AIF在頂、底回基底膜外毛細(xì)胞的熒光強(qiáng)度均較正常對(duì)照組強(qiáng),且在細(xì)胞核中可見(jiàn)到少量AIF表達(dá);RT-qPCR與Westernblot結(jié)果相符,顯示為,在正常情況下,頂回基底膜的AIF表達(dá)高于底回,噪聲暴露后,AIF頂、底回基底膜表達(dá)均較