恩諾沙星和槐定堿分子印跡聚合物的制備及性能研究.pdf

1、分子印跡技術(shù)是一種制備三維空間結(jié)構(gòu)及其結(jié)合位點(diǎn)均與模板分子完全匹配的高分子聚合物的技術(shù)。分子印跡聚合物對(duì)目標(biāo)分子具有強(qiáng)親和性和高選擇性，在固相萃取、食品檢測(cè)、藥物分析、藥物給藥系統(tǒng)、化學(xué)仿生傳感等領(lǐng)域顯示出很好的應(yīng)用前景。本課題分別采用本體聚合法和沉淀聚合法制備恩諾沙星分子印跡聚合物，并通過(guò)紅外光譜分析法、掃描電鏡、吸附實(shí)驗(yàn)和藥物體外釋放實(shí)驗(yàn)對(duì)其性能進(jìn)行研究。同時(shí)，將該技術(shù)用于制備槐定堿分子印跡聚合物，并對(duì)其性能進(jìn)行表征。
　　本

2、文主要包括以下幾個(gè)方面:
　　(1)恩諾沙星印跡聚合物的制備及藥物釋放研究以恩諾沙星為模板分子，甲基丙烯酸為功能單體，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯為交聯(lián)劑制備恩諾沙星印跡聚合物，并通過(guò)吸附實(shí)驗(yàn)對(duì)其合成條件進(jìn)行了優(yōu)化。通過(guò)掃描電鏡、吸附實(shí)驗(yàn)、紅外光譜分析等對(duì)印跡聚合物的形態(tài)、吸附性能、印跡效果進(jìn)行了表征，并測(cè)定了各印跡聚合物在不同pH值介質(zhì)中的藥物釋放性能。當(dāng)模板分子∶功能單體∶交聯(lián)劑的比例為1∶8∶6時(shí)，合成的印跡聚合物的吸附性能最

3、佳。Scatchard模型分析顯示，最佳條件下制備的印跡聚合物的最大表觀結(jié)合量66.816 mg/g。該印跡聚合物載藥后的體外釋放行為呈pH依賴(lài)性。
　　(2)沉淀聚合法制備恩諾沙星印跡微球及藥物釋放的研究采用沉淀聚合法制備恩諾沙星分子印跡微球，并對(duì)其合成條件進(jìn)行優(yōu)化。通過(guò)吸附實(shí)驗(yàn)比較了沉淀聚合法和本體聚合法制備的分子印跡聚合物的吸附性能差異。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，沉淀聚合法制備的分子印跡聚合物的吸附性能較好，分子印跡微球的吸附動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn)

4、數(shù)據(jù)符合二級(jí)動(dòng)力學(xué)方程，分子印跡微球的等溫吸附特性符合Freundlich方程。體外釋放實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，在人工腸液中，分子印跡微球釋放速率顯著低于非分子印跡微球，其釋放時(shí)間可持續(xù)12h，而非分子印跡微球在4h時(shí)釋放接近完全，表明恩諾沙星分子印跡微球有很好的緩釋效果，在藥物緩控釋領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。
　　(3)槐定堿印跡聚合物的制備及其表征本章建立了槐定堿的HPLC檢測(cè)方法，采用沉淀聚合法制備了槐定堿分子印跡聚合物，利用紅外光譜和