樟樹幼苗對二氧化氮（NO-,2-）的抗性機(jī)理研究.pdf

1、本論文以樟樹Cinnamomum camphora-年生的幼苗為研究對象,研究了在主要大氣污染物二氧化氮(NO2)影響下,樟樹幼苗的傷害癥狀,樟樹幼苗在受到NO2氣體脅迫后,其葉片內(nèi)超氧化物歧化酶(SOD)、丙二醛(MDA)、葉綠素(Chl)、硝酸還原酶(NRA)、抗壞血酸(Vc)、谷胱甘肽還原酶(GR)的動態(tài)變化；葉片全氮含量的動態(tài)變化,分析不同處理條件與樟樹對NO2凈化能力的相互關(guān)系。同時,研究NO2氣體,HF氣體,NO2與HF混合

2、氣體脅迫對樟樹抗氧化體系的影響。試驗(yàn)結(jié)果表明： 1.受NO2氣體毒害,樟樹幼嫩葉片首先出現(xiàn)受害癥狀,且新葉受傷害程度較其它部位葉片更明顯。 2.NO2濃度梯度處理中,隨著NO2濃度的增高,SOD活力和Vc含量呈先上升后下降的趨勢；GR活力變化較??；MDA含量呈逐漸增加趨勢,增幅較平緩；葉綠素總含量、葉綠素a以及葉綠素b,凈光合速率逐漸減少均呈下降趨勢； NRA的活力呈先降后增的趨勢。樟樹凈光合速率日變化、氣孔導(dǎo)度日變化基

3、本一致,呈雙峰；葉綠素?zé)晒鈪?shù)Fv/Fm,隨NO2濃度增加呈下降趨勢。 3.溫度梯度處理中,隨著環(huán)境氣溫的升高,SOD活力、NRA活力和Vc含量均呈下降趨勢:MDA含量和葉綠素總含量、葉綠素a以及葉綠素b均呈先升高后下降的趨勢；GR活力先降后升,增加幅度較小。 4.光照梯度處理對大部分指標(biāo)的影響相對較小,對SOD和GR的活力影響較大。 5.NO2氣體、HF氣體以及該兩種氣體的復(fù)合氣體為污染源的試驗(yàn)中,在0.05水

4、平,NO2氣體處理時,Chl與NRA之間的皮爾森系數(shù)最大為0.996;HF氣體處理時,Chl與NRA之間的皮爾森系數(shù)最大為0.981。NO2與HF混合氣體條件下,Chl與Vc的皮爾森系數(shù)為0.999,達(dá)到極相關(guān)。 結(jié)果顯示樟樹幼苗在低濃度的NO2(9 mg·kg-1左右)脅迫中表現(xiàn)出較強(qiáng)的抗性和凈化能力：在處于一定濃度NO2中,樟樹幼苗的抗性隨著環(huán)境溫度升高而減弱；光照強(qiáng)弱對樟樹幼苗的抗性有一定影響但不顯著：在相同濃度的污染氣體