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1、本文采用光催化高級(jí)氧化法和電化學(xué)法兩種低溫表面改性技術(shù)對(duì)鎳鈦形狀記憶合金(NiTi SMA)進(jìn)行表面改性研究,以期在不改變合金基體形狀記憶效應(yīng)的前提下,改變其表面組織結(jié)構(gòu),提高生物相容性。光催化高級(jí)氧化法利用紫外光(UV)催化過(guò)氧化氫(H<,2>O<,2>)分解成具有高氧化電位的羥自由基(·OH)對(duì)NiTi SMA進(jìn)行氧化表面改性;而電化學(xué)法則先后采用電化學(xué)拋光、陽(yáng)極氧化和電沉積技術(shù)對(duì)NiTi SMA進(jìn)行表面改性處理。 采用掃描
2、電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀(XPS)等系統(tǒng)研究了光催化高級(jí)氧化和電化學(xué)法表面改性處理對(duì)NiTi SMA表面組織結(jié)構(gòu)的影響。研究表明:光催化高級(jí)氧化處理后NiTi SMA表面原位生成了貧Ni、富O的Ti氧化物膜,該氧化膜與NiTi SMA基體間有一成份梯度過(guò)渡層;電化學(xué)拋光使NiTi SMA表面達(dá)到鏡面化,且形成了一約10nm厚的貧Ni鈍化層;以H<,2>SO<,4>為電解質(zhì)陽(yáng)極氧化時(shí)得到的膜層比較疏
3、松,而以Na<,2>SO<,4>為電解質(zhì)陽(yáng)極氧化時(shí)得到的膜層則相對(duì)比較致密;陽(yáng)極氧化可以形成表面無(wú)Ni的TiO<,2>氧化物膜;電沉積在試樣表面形成了具有片狀和針狀結(jié)構(gòu)的疏松Ca-P陶瓷層,主要成份為羥基磷灰石(HA)的前驅(qū)體DCPD(CaHPO<,4>[H<,2>O]<,2>)。 采用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)研究改性處理對(duì)NiTi SMA植入材料在模擬體液(SBF)中抑制Ni離子釋放能力的影響。研究發(fā)現(xiàn):光催化高
4、級(jí)氧化和以Na<,2>SO<,4>為電解質(zhì)的陽(yáng)極氧化所形成的氧化膜可以很好的阻擋Ni的析出;以H<,2>SO<,4>為電解質(zhì)陽(yáng)極氧化得到試樣前期析出Ni較少,但時(shí)間延長(zhǎng)析出Ni的濃度有大幅度增加;電化學(xué)拋光的試樣仍有較多的Ni析出,但跟化學(xué)拋光的試樣相比,析出Ni的濃度也大大降低。 采用接觸角測(cè)量、溶血實(shí)驗(yàn)和血小板黏附實(shí)驗(yàn)研究改性處理對(duì)NiTi SMA血液相容性的影響。研究發(fā)現(xiàn):光催化高級(jí)氧化和電化學(xué)法表面改性都提高了試樣的親水
5、性,降低了溶血率,且經(jīng)光催化高級(jí)氧化和電化學(xué)拋光后陽(yáng)極氧化的NiTi SMA試樣表面血小板黏附數(shù)量減少,變形程度和團(tuán)聚現(xiàn)象得到抑制,試樣抗凝血能力得到改善,血液相容性得到提高。 采用MTT細(xì)胞毒性實(shí)驗(yàn)研究了改性處理對(duì)NiTi SMA細(xì)胞相容性的影響。與L929小鼠成纖維細(xì)胞共同培養(yǎng)表明:光催化高級(jí)氧化和電化學(xué)法表面改性后,NiTi SMA無(wú)細(xì)胞毒性,表面氧化物膜層的存在有效抑制了Ni的析出,細(xì)胞相容性的提高促進(jìn)了L929成纖維細(xì)
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