喹諾酮類分子印跡聚合物的合成及其吸附特性的研究.pdf

1、本文共分三章。
　　 第一章：文獻(xiàn)綜述，闡述了分子印跡技術(shù)的基本原理和分子印跡聚合物的制備方法，綜述了該技術(shù)的應(yīng)用及發(fā)展情況。
　　 第二章：以環(huán)丙沙星(CIP)為模板分子，a－甲基丙烯酸(MAA)為功能單體，三甲基丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TRIM)為交聯(lián)劑，進(jìn)行熱聚合。通過(guò)對(duì)于功能單體和交聯(lián)劑的用量對(duì)分子印跡聚合物吸附性能的影響的研究，得到最佳的聚合配比為n(CIP)．n(MMA)：n(TRIM)=1：6：16，并以此配

2、比制得了對(duì)環(huán)丙沙星具有特異選擇性吸附的分子印跡聚合物。通過(guò)靜態(tài)平衡結(jié)合法研究了模板聚合物的結(jié)合動(dòng)力學(xué)以及該聚合物的結(jié)合能力和選擇特性，通過(guò)Scatchard分析法研究了印跡聚合物對(duì)模板分子的結(jié)合特性。結(jié)果表明，該印跡聚合物具有良好的吸附能力和吸附選擇性，靜態(tài)吸附分配系數(shù)KD為41.64，分離因子a為1.62；該印跡聚合物中形成了2類不同的結(jié)合位點(diǎn)，經(jīng)計(jì)算它們的離解常數(shù)分別為Kd1=5.249x l0—5mol·L—1，Kd2=2.237

3、×10—3mol·L—1。
　　 第三章：采用組合模板方法制備了一種新型的以環(huán)丙沙星(CIP)和左氧氟沙星(LYFX)為模板分子的雙模板分子印跡聚合物。研究了不同濃度的交聯(lián)劑和功能單體對(duì)分子印跡聚合物吸附性能的影響并確定了最佳聚合比，通過(guò)靜態(tài)平衡結(jié)合法研究了該印跡聚合物分別對(duì)于CIP和LVFX的吸附特性，通過(guò)Scatchard分析法研究了印跡聚合物對(duì)模板分子的結(jié)合特性，并對(duì)其在固相萃取中的應(yīng)用進(jìn)行了初探。結(jié)果表明，雙模板印跡聚合