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1、在許多領(lǐng)域,超細(xì)顆粒的分散已成為提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少且十分重的技術(shù)手段.在礦物加工領(lǐng)域,控制分散是獲得選擇性浮選分離的重要條件.在集成電路制造業(yè)的化學(xué)機(jī)械拋光工藝技術(shù)中,拋光劑超細(xì)SiO<,2>,Al<,2>O<,3>粒子的充分分散是獲得0.15μm芯片表面平整度的前提.該文以超細(xì)顆粒在液相介質(zhì)中的賦存狀態(tài)的理論研究成果和化學(xué)機(jī)械拋光研磨液的應(yīng)用研究基礎(chǔ)上展開工作.實(shí)驗(yàn)研究了超細(xì)SiO<,2>,Al<,2>O<,3>
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