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文檔簡介
1、電阻抗斷層成像是近二十多年發(fā)展起來的一種新的醫(yī)學(xué)成像技術(shù)。通過在目標(biāo)物體四周安放電極陣列并注入交流電流，在產(chǎn)生電流場的同時(shí)，通過電極測量目標(biāo)物體四周的電壓，由注入的交流電流信號和測量的電壓數(shù)據(jù)，以及一些附加信息，重構(gòu)出目標(biāo)物體橫截面內(nèi)(或空間)的電導(dǎo)率(或電阻率)分布，從而得到反映物體內(nèi)部組織特性的電導(dǎo)率斷層圖像。 本文從EIT系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì)方面入手，分析了整個(gè)電路的設(shè)計(jì)過程，包括系統(tǒng)總體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和各模塊內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，最終設(shè)計(jì)完成
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