光學(xué)元件超光滑表面在精密拋光中表面光潔度控制的研究.pdf

1、隨著科技的發(fā)展,高精度產(chǎn)品的需求日益迫切,具有亞納米級(jí)粗糙度的超光滑表面在軟X射線光學(xué)、強(qiáng)激光及激光陀螺等領(lǐng)域有著越來越廣泛的應(yīng)用。拋光過程是一個(gè)極為復(fù)雜且難以控制的加工過程,實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)的自動(dòng)化是超光滑表面加工所追求的最終目標(biāo)。本文主要圍繞影響拋光表面光潔度質(zhì)量的幾個(gè)關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行研究。
　　 論文首先針對(duì)超級(jí)研磨拋光機(jī)的工作狀態(tài),從流體動(dòng)力學(xué)的角度,分析并計(jì)算了拋光液對(duì)工件產(chǎn)生的流體動(dòng)壓力;從理論上指出拋光中工件與拋光模處于接觸狀

2、態(tài),并通過兩個(gè)拋光實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了這一觀點(diǎn)。
　　 論文就超光滑拋光機(jī)理進(jìn)行了研究,詳細(xì)地解釋了超光滑拋光中工件原子級(jí)去除的概念,提出工件表面材料去除的動(dòng)因是表面原子獲得能量;工件與拋光模間的弱摩擦作用是去除表面原子的能量來源。針對(duì)超光滑表面的特點(diǎn),研究了超光滑表面拋光過程中的拋光液、拋光模、材料去除率等幾個(gè)關(guān)鍵技術(shù)對(duì)超光滑表面的影響,通過實(shí)驗(yàn),提出了一系列的工藝改進(jìn)方案;并指出材料去除率與表面質(zhì)量有著直接的關(guān)系。
　　 論文