大面積全自動SiN-,x-薄膜PECVD沉積系統(tǒng)的設計與實現(xiàn).pdf

1、PECVD薄膜沉積系統(tǒng)在半導體薄膜沉積過程中得到了非常廣泛的運用，同時也是制造非晶硅薄膜太陽電池的主要設備。PECVD沉積的氮化硅薄膜，沉積在晶體硅太陽電池的表面，對太陽光有良好的減反射作用，并且對晶體硅表面和體內的缺陷起到很好的鈍化作用，從而大大的提高了太陽電池的轉換效率。 現(xiàn)在，國內在生產(chǎn)和科研單位運用PECVD系統(tǒng)沉積薄膜已經(jīng)相當?shù)膹V泛。但是科研單位主要是小面積的PECVD的沉積系統(tǒng)，而生產(chǎn)線上使用的大面積連續(xù)PECVD沉

2、積系統(tǒng)主要是依靠國外進口。 本文設計并實現(xiàn)了全自動控制大面積連續(xù)生產(chǎn)SiNx薄膜PECVD沉積設備的系統(tǒng)。本論文主要的特點是具有很強的工程性，并且直接為產(chǎn)業(yè)化服務，該成果直接用于我國首臺自主研發(fā)的大面積、連續(xù)生產(chǎn)的全自動PECVD沉積系統(tǒng)。 本論文包括以下三個方面的研究內容： 1、根據(jù)大面積連續(xù)生產(chǎn)SiNx薄膜PECVD自動沉積系統(tǒng)的要求實現(xiàn)設備硬件的優(yōu)化設計。 2、大面積連續(xù)生產(chǎn)SiNx薄膜PECVD沉