大平面機械拋光運動特性及拋光均勻性研究.pdf

1、大平面機械拋光廣泛應用于墻地磚、石材及玻璃制品的精加工中。由于拋光質量的影響因素復雜，長期以來拋光工藝的制定以及拋光機結構優(yōu)化都是建立在試驗和生產(chǎn)經(jīng)驗基礎上，拋光過程缺乏系統(tǒng)的理論依據(jù)為指導，導致大平面機械拋光的效率低、返拋率高。為了更好的了解拋光質量的影響因素、提高拋光效率，本文以墻地磚拋光機為研究對象，分析了大平面機械拋光的運動特性，建立拋光均勻性分析的計算機仿真模型，并結合仿真與試驗研究了拋光工藝參數(shù)對拋光質量的影響規(guī)律。因此，本

2、文能夠為指導墻地磚拋光加工提供有價值的科學依據(jù)，對于提高拋光效率具有一定意義。 本文首先在大平面機械拋光運動過程分析的基礎上，建立拋光的運動學模型。得出單顆磨粒的運動軌跡特性和速度變化規(guī)律，以及單拋光盤的運動軌跡特性和速度分布變化規(guī)律，從運動學角度探討了拋光量分布不均的原因。結合多個拋光盤拋光的特點，研究了多個拋光盤拋光的運動特性和組合規(guī)律，得出了實現(xiàn)均勻拋光的參數(shù)匹配關系。 以Preston假設為基礎，引入拋光均勻性的

3、數(shù)學評價參數(shù)，建立了大平面機械拋光均勻性分析的計算機仿真模型，并確定了仿真參數(shù)，對單拋光盤和雙拋光盤組合拋光兩種情況下拋光量的分布進行了仿真。試驗與仿真結果表明該模型能夠表征出拋光平面拋光量的分布情況與拋光的均勻程度。 以墻地磚拋光為研究對象，得出了拋光質量的關鍵影響因素，結合拋光均勻性仿真模型與試驗分析，研究了拋光壓強、拋光盤轉速、墻地磚輸送速度、橫梁擺動周期、拋光盤間距以及橫梁擺動速度曲線等拋光工藝參數(shù)對拋光質量的影響規(guī)律，