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1、目前,在ICF的研究中,由于受到激光能量的限制,整體式空腔靶的空腔必須設(shè)計(jì)得很小,直徑和長(zhǎng)度多為毫米級(jí),其表面積一般小于15mm2,要求精度達(dá)到微米量級(jí)。顯然,通過機(jī)械加工的方法,如此小的整體式空腔靶材是無法實(shí)現(xiàn)的。采用液相沉積技術(shù)制備整體式空腔Fe靶,在預(yù)處理芯軸表面金屬化的催化作用下,通過鍍液可控制的氧化還原反應(yīng)產(chǎn)生金屬Fe的化學(xué)沉積,鍍層致密、針孔少,鍍層厚度易于控制,鍍鐵純度也能滿足空腔靶的要求。因此,論文開展研究激光聚變整體式
2、空腔Fe靶的表面沉積工藝,為國(guó)內(nèi)外開展其他金屬或合金整體式空腔靶材的研制提高了相關(guān)參考。
論文開展了怎樣實(shí)現(xiàn)在非金屬表面沉積鐵膜的工藝研究,后對(duì)電鍍處理薄層鐵膜工藝進(jìn)行了初步探索。實(shí)驗(yàn)過程中,先采用化學(xué)鍍方法在非金屬基底表面沉積薄層鐵膜,在基底材料 PMMA前期處理后,對(duì)化學(xué)鍍液配方進(jìn)行摸索,基本構(gòu)成有主鹽,絡(luò)合劑,緩沖劑,還原劑,后在實(shí)驗(yàn)過程中,為了沉積致密光亮鐵層,考慮向其中加入添加劑,如糖精、甜菜堿等。同時(shí),鍍液中的各個(gè)
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