高鐵Ni-Fe合金箔的電沉積工藝.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、Ni-Fe合金箔是優(yōu)良的電磁記憶材料和磁屏蔽材料,也是良好的裝飾防護(hù)性材料。隨著鎳價的上漲,以鐵取代鎳生產(chǎn)高鐵含量的鎳鐵合金箔具有重要的意義。
  本文以氯化物-硫酸鹽體系電沉積Ni-Fe合金箔,系統(tǒng)研究了各因素對鎳鐵合金箔中鐵含量的影響,確定出電沉積Ni-Fe合金箔的最適宜工藝條件為:電流密度5A/dm2,pH2.20,溫度55℃,攪拌速度50rpm,F(xiàn)eSO4·7H2O濃度為100g/L,NiSO4·6H2O濃度為150gL,

2、NiCl2·6H2O濃度40g/L,糖精鈉濃度3g/L,檸檬酸三鈉濃度為3g/L,PS濃度為150mg/L。在此工藝條件下獲得鐵含量為63.5%的鎳鐵合金箔,合金鍍層表面平整光亮,晶粒尺寸為20nm。XRD、維氏硬度和陽極極化曲線分析表明,鍍層中鐵含量由52%上升到63.5%,合金箔由面心立方結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)槊嫘暮腕w心混合結(jié)構(gòu),硬度由445HV下降到320HV,但鐵含量對抗腐蝕性能影響小。
  分別以鎳鐵和鐵鎳鈦作為陽極,監(jiān)測了鍍液中F

3、e2+,Ni2+濃度隨電沉積時間的變化。發(fā)現(xiàn)采用鎳鐵陽極連續(xù)電鍍10h,鍍液Fe2+濃度升高21.78%,Ni2+濃度升高13.03%;采用鐵鎳鈦聯(lián)合陽極,F(xiàn)e2+濃度升高14.75%,Ni2+濃度升高8.68%。定期稀釋鍍液,補加適量的BBI和PS,可以提高鍍液的穩(wěn)定性和續(xù)鍍能力。
  采用線性電位掃描、循環(huán)伏安、交流阻抗等方法研究了單一添加劑以及添加劑在鍍液中的電化學(xué)行為。發(fā)現(xiàn)檸檬酸三鈉,糖精鈉和PS抑制了氫氣的析出,不同的添

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