1、微流控芯片涉及的應用領(lǐng)域極其廣泛，常用于基因分析、新藥物的合成與篩選、生物選礦及疾病診斷等方面，其憑借快速分析、低消耗、微型化和自動化等特點，被列為21世紀最為重要的前沿技術(shù)研究對象之一，受到越來越廣泛的關(guān)注。本文旨在研究“1+1式”微流控芯片基片與蓋片的成型對注射成型流動平衡的影響，從而提高聚合物微流控芯片注射成型制件的厚度均勻性。
為探究注射成型所獲得“1+1”式微流控芯片基片厚度不均的根本原因，本文進行微流控芯片注射
2、成型短射實驗，觀測基片與蓋片的流動前沿位置，并對基片與蓋片進行稱重，繪制成型制件充填量與充填時間之間的關(guān)系曲線，定量評價了“1+1”式微流控芯片成型過程中的流動不平衡。
建立了微流控芯片幾何模型，采用了模流分析軟件MoldflowPlastics Insight的Fill模塊對微流控芯片注射成型充填過程進行了數(shù)值仿真，對澆注系統(tǒng)尺寸及芯片尺寸分別進行了優(yōu)化。研究結(jié)果表明:當蓋片扇形澆口厚度為0.6mm，寬度為7mm，基片分
3、流道高度降至1.5mm時，基片與蓋片的充填時間只相差0.0031s，流動不平衡率為2.5％，滿足微流控芯片注射成型的平衡性要求，所需鎖模力減小，但會導致注射壓力增大。在不改變澆注系統(tǒng)尺寸情況下，通過優(yōu)化蓋片厚度的方式，也能使微流控芯片注射成型達到平衡。當蓋片厚度增至0.75mm時，基片與蓋片的充填時間相差0.0060s，流動不平衡率為4.3％，同樣滿足流動平衡要求，所需鎖模力及注射壓力均下降，減少了模具漲模的風險。
對比兩