近柱面干涉檢測(cè)研究.pdf

1、干涉檢測(cè)是近柱光學(xué)面制造過(guò)程中的重要環(huán)節(jié)。本文通過(guò)Zemax和Matlab仿真，對(duì)近柱面正入射式干涉檢測(cè)中的若干問(wèn)題進(jìn)行了深入研究。內(nèi)容主要涉及到近柱面檢測(cè)裝置的特性分析和優(yōu)化、曲面擬合法處理波像差的精度特性研究和提高精度的方法等。具體內(nèi)容包括： 1、利用Zemax構(gòu)造檢測(cè)裝置模型。該模型可有效模擬各種近柱二次曲面的正入射式檢測(cè)。 2、深入分析正入射式檢測(cè)裝置下的近柱面干涉圖特性，并以此為基礎(chǔ)研究了近柱面的可檢性。

2、 3、探討離焦量和傾斜量的調(diào)整對(duì)近柱面檢測(cè)裝置的優(yōu)化作用，以及此類(lèi)優(yōu)化的局限性。 4、編制曲面擬合法處理波像差數(shù)據(jù)的Matlab仿真軟件。 5、研究擬合參數(shù)同曲面擬合法的擬合效果之間的相關(guān)性，以此為著眼點(diǎn)討論曲面擬合法處理波像差數(shù)據(jù)的精度特性。 6、發(fā)展了最佳擬合階數(shù)的確定方法以提高曲面擬合法處理波像差數(shù)據(jù)的精度。 對(duì)以上各項(xiàng)內(nèi)容的深入研究，一方面有助于提高對(duì)近柱面正入射式檢測(cè)技術(shù)的認(rèn)識(shí)水平；另一方面，