EUVL微縮投影光學(xué)系統(tǒng)精密裝調(diào)技術(shù)研究.pdf

1、在電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展過程中，集成電路技術(shù)對現(xiàn)代化工業(yè)的發(fā)展和人們的生活起了極其重要的作用，而光刻技術(shù)是集成電路生產(chǎn)技術(shù)的核心和關(guān)鍵，倍受世界各國的關(guān)注。極紫外投影光刻(ExtremeUltravioletLithography簡稱EUVL)最有可能成為下一世紀(jì)生產(chǎn)線寬小于0.1μm集成電路的技術(shù)，近年來在激光等離子體光源、極紫外多層膜、光學(xué)加工和檢測、光學(xué)精密裝調(diào)、低缺陷掩模、光刻膠技術(shù)以及高穩(wěn)定工作臺系統(tǒng)控制等關(guān)鍵技術(shù)方面得到了飛速發(fā)展

2、。作為EUVL關(guān)鍵技術(shù)之一，微縮投影光學(xué)系統(tǒng)的精密裝調(diào)直接影響著系統(tǒng)的最終成像質(zhì)量。針對EUVL投影光學(xué)系統(tǒng)對成像質(zhì)量的高精度要求和精密裝調(diào)對于系統(tǒng)成像的重要性，本文在共軸照明Schwarzschild結(jié)構(gòu)的EUVL成像系統(tǒng)基礎(chǔ)上，進(jìn)一步設(shè)計(jì)了離軸照明Schwarzschild結(jié)構(gòu)的EUVL微縮投影光學(xué)系統(tǒng)，并模擬了光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量。對計(jì)算機(jī)輔助計(jì)算的精密裝調(diào)技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的理論分析，建立了數(shù)學(xué)模型，闡明了像差與各個結(jié)構(gòu)參數(shù)的相關(guān)性，