雙面大面積BDD電極制備CVD設(shè)備的關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf

1、摻硼金剛石（BDD）涂層電極具有優(yōu)異的電學(xué)和電化學(xué)性能，在有機(jī)物污水處理方面有廣闊的應(yīng)用前景。BDD涂層電極工業(yè)化應(yīng)用首先要解決BDD涂層電極大面積、高效制備問題，但目前國內(nèi) BDD電極大面積制備設(shè)備還處于空白。本文旨在研制一套可以連續(xù)制備雙面大面積BDD涂層電極的化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備，為大面積BDD涂層電極的高效生產(chǎn)提供技術(shù)支撐。本文主要工作和成果包括：
　　1.通過大面積BDD涂層電極的沉積試驗(yàn)和BDD涂層分析，發(fā)現(xiàn)制備

2、的大面積電極存在BDD涂層的成分、厚度、微觀結(jié)構(gòu)不均勻的問題。分析了大面積BDD涂層不均勻的原因，為雙面大面積BDD涂層電極的均勻制備提供解決途徑。
　　2.通過BDD涂層電極的沉積試驗(yàn)和流場數(shù)值模擬研究了大面積BDD涂層電極制備時(shí)基體表面流場的分布。研究了進(jìn)排氣口分散個(gè)數(shù)、孔徑對(duì)電極表面流場的影響。根據(jù)流場分布特征針對(duì)性地采用減速板結(jié)構(gòu)對(duì)邊緣流場進(jìn)行優(yōu)化，得到了可獲得均勻流場的各部分結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)參數(shù)。
　　3.通過大面積