鎂合金陽極氧化膜性能的電化學(xué)研究.pdf

1、鎂合金被譽(yù)為是21世紀(jì)最富有開發(fā)和應(yīng)用潛力的“綠色工程材料”，由于其具有其他結(jié)構(gòu)金屬所無法比擬的優(yōu)良特性，被廣泛地應(yīng)用于汽車、航空航天以及通訊制造等工業(yè)中，但是由于鎂合金的耐腐蝕性差制約了鎂合金應(yīng)用的進(jìn)一步擴(kuò)展,而陽極氧化技術(shù)是最有潛力的表面處理技術(shù)之一。
　　本文研究了陽極氧化工藝參數(shù)氧化時(shí)間、電流密度和溫度對(duì)鎂合金AZ31陽極氧化膜的制備及性能的影響，并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。利用SEM和交流阻抗技術(shù)研究陽極氧化膜的生長過程。利用

2、電化學(xué)噪聲研究鎂合金AZ31及其氧化膜的腐蝕過程。研究結(jié)果表明：
　　1、氧化時(shí)間和電流密度對(duì)氧化膜的形成是正影響，參數(shù)值越大，氧化膜越容易形成，但是值過大后，會(huì)造成氧化膜粗糙，耐腐蝕性能變差。溫度對(duì)氧化膜對(duì)氧化膜的形成是負(fù)影響，溫度越高氧化膜越不易形成，當(dāng)溫度超過50℃后，陽極氧化不能進(jìn)行。
　　2、確定了鎂合金AZ31的陽極氧化最優(yōu)化工藝參數(shù)：氧化時(shí)間為20min，電流密度為10mA/cm2，氧化溫度為20℃。