聚對二氧環(huán)己酮-蒙脫土納米復(fù)合材料的制備與結(jié)構(gòu)性能研究.pdf

1、近年來，聚合物/粘土納米復(fù)合材料因表現(xiàn)出許多優(yōu)異的性能而引起了人們極大的興趣。粘土片層的厚度一般在1nm左右，當(dāng)他們以單個的片層均勻分散于聚合物基體中，不但復(fù)合材料原有的性能有所提高，并且表現(xiàn)出許多新的性能。現(xiàn)在研究較多的是片狀粘土，尤其是鈉基蒙脫土(MMT-Na)。@2　　片狀結(jié)構(gòu)的蒙脫土是有兩個硅氧四面體中間夾帶一個鋁氧八面體晶片構(gòu)成，由于硅氧四面體中的部分Si4+和鋁氧八面體中的Al3+容易被Mg2+所置換，因此在這些片層內(nèi)產(chǎn)生

2、了過剩的負(fù)電荷。為了保持電中性，這些過剩的負(fù)電荷通過層間吸附的陽離子來補償。蒙脫土層間吸附有Ca2+、Na+等水合陽離子，他們很容易與有機或無機陽離子進行交換，使層間距發(fā)生變化，因此通過適當(dāng)有效的方法可以使聚合物插入到蒙脫土片層間形成納米復(fù)合材料。人們已經(jīng)成功的制備了許多聚合物/粘土納米復(fù)合材料?！　”疚牟捎脦Яu基官能團的烷基季銨鹽和一般的烷基季銨鹽對鈉基蒙脫土進行有機化處理，使其成為有機蒙脫土。X-射線衍射(XRD)分析表明有機陽離

3、子已同鈉離子發(fā)生離子交換作用，導(dǎo)致層間距增大。采用對環(huán)境友好的原位插層復(fù)合法制備聚對二氧環(huán)己酮/蒙脫土(PPDO/MMT)納米復(fù)合材料，研究聚合物插層納米復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)與性能，內(nèi)容包括下面兩部分部分：　　采用原位插層聚合法制備聚對二氧環(huán)己酮/蒙脫土(PPDO/MMT)納米復(fù)合材料，研究了不同類型的蒙脫土對聚對二氧環(huán)己酮/蒙脫土納米復(fù)合材料特性粘數(shù)的影響，并對蒙脫土在聚合反應(yīng)中能夠加速聚合反應(yīng)的速率的作用進行了研究。采用XRD及TEM對