EVOH-蒙脫土納米復(fù)合材料的制備、結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf

1、聚合物/層狀硅酸鹽納米復(fù)合材料是以聚合物為基體，以納米分散的硅酸鹽片層作為填料的新型復(fù)合材料，由于它在改善聚合物的力學(xué)性能、阻隔性能、阻燃性能、光學(xué)性能等方面性能的優(yōu)良表現(xiàn)，近幾年得到了廣泛的研究。
　　本課題研究了 EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料體系的制備、結(jié)構(gòu)、性能，主要內(nèi)容如下：
　　首先,采用不同改性劑對蒙脫土進(jìn)行插層改性，通過紅外分析（FT-IR）、X-射線衍射（XRD）和掃描電鏡（SEM）對插層效果進(jìn)行分析；并對其

2、與聚合物的相容性進(jìn)行研究。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：陽離子改性劑中雙十八烷基二甲基氯化銨改性效果較好，蒙脫土層間距由1.42nm增加至3.5nm。硅烷偶聯(lián)劑KH550用量為5％（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）時(shí)，蒙脫土與聚合物相容性最佳。
　　其次,采用了溶液插層和熔融插層兩種方法制備了 EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料，并對制備的納米復(fù)合膜進(jìn)行紫外輻照研究。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：采用熔融插層法制備的EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料的性能優(yōu)于溶液插層法制備的復(fù)合材料，經(jīng)紫外輻照

3、處理8h后的EVOH/蒙脫土納米復(fù)合膜的力學(xué)性能，阻隔性能都得到較大程度的提高。
　　最后,對熔融插層法制備的EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料經(jīng)紫外輻照處理后的結(jié)晶性能、流變性能、力學(xué)性能、光學(xué)性能、阻隔性能等進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明：通過對 EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料進(jìn)行FT-IR、XRD等表征發(fā)現(xiàn)，蒙脫土已插層進(jìn)EVOH聚合物中，且層間距得到進(jìn)一步增加，其在聚合物中分散較均勻，形成了部分剝離的插層型納米復(fù)合材料。
　　少量

4、蒙脫土在聚合物中能起到異相成核作用，能提高復(fù)合材料結(jié)晶度。EVOH/蒙脫土納米復(fù)合材料熔體為非牛頓流體，隨剪切速率增加，剪切粘度下降，即存在剪切變稀現(xiàn)象；隨著有機(jī)蒙脫土含量的增加，熔體粘度升高。蒙脫土含量為5%時(shí)，EVOH/OMMT納米復(fù)合材料的拉伸強(qiáng)度、阻隔氧氣性能相對于純EVOH分別提高了26%、21%；而當(dāng)蒙脫土含量為3%時(shí)，復(fù)合材料的撕裂強(qiáng)度和阻隔水蒸汽性能分別提高了20%、38%；而當(dāng)蒙脫土含量為1%時(shí)，復(fù)合材料的抗沖擊性能提