2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、近年來,隨著光纖通信的迅猛發(fā)展,窄線寬、高邊模抑制比的半導(dǎo)體激光器成為高速、長距離光通信和相干通信的重要器件,動(dòng)態(tài)單模分布反饋激光器(DFB-LD)則成為首選光源。對(duì)于分布反饋激光器來說,器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和材料的外延生長是整個(gè)激光器器件制作的基礎(chǔ),對(duì)器件的光學(xué)和電學(xué)性能有著重要的影響。中國電子科技集團(tuán)第十三研究所光電專業(yè)部在量子阱激光器的研究中獲得過大量的研究成果,有著豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),因此,保證了對(duì)分布反饋激光器研究的理論及實(shí)驗(yàn)條件。

2、 理論方面,本文發(fā)展了單模工作的分布反饋激光器的非線性模型,在考慮縱模的空間燒孔效應(yīng)的前提下,用傳輸矩陣與牛頓法相結(jié)合的方法數(shù)值模擬了1550nmInGaAsP/InP多量子阱的均勻光柵的分布反饋激光器和λ/4相移的分布反饋激光器。對(duì)相同材料結(jié)構(gòu)的兩種激光器進(jìn)行了對(duì)比,λ/4相移的分布反饋激光器具有高的邊模抑制比,可以有效分析空間燒孔效應(yīng)對(duì)激光器的影響,從而優(yōu)化對(duì)分布反饋激光器的外延生長及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。 實(shí)驗(yàn)方面,用電子束光刻和

3、濕法腐蝕制作了均勻的亞微米光柵,優(yōu)化工藝后,獲得了高質(zhì)量的光柵。研究了幾種腐蝕液對(duì)半導(dǎo)體激光器外延材料中InP的腐蝕過程,其中HBr:HNO3:H2O這種腐蝕液比較適合,用掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)其腐蝕情況進(jìn)行了分析,并給出了利用這種腐蝕液對(duì)電子束曝光的襯底片InP的SEM圖像。通過調(diào)節(jié)腐蝕液HBr:HNO3:H2O的體積比(從1:1:10到1:1:30)找到了對(duì)InP的腐蝕的合適腐蝕條件(室溫23℃)以及最佳配比(1:1:30)。利

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