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文檔簡(jiǎn)介
1、 本文在不同的工藝參數(shù)和電解液體系條件下,采用微等離子體氧化技術(shù)在AZ91D鎂合金表面原位生成陶瓷膜,研究電解液體系、電流密度、反應(yīng)時(shí)間、頻率對(duì)陶瓷膜層耐熱震性的影響,得出適合鎂合金微等離子體氧化原位生長(zhǎng)陶瓷膜的工藝參數(shù),制備出硬度、結(jié)合強(qiáng)度高的陶瓷膜,并研究了陶瓷膜的組成、結(jié)構(gòu)。首先利用渦流測(cè)厚儀測(cè)定了不同條件下陶瓷膜的厚度,通過(guò)掃描電子顯微鏡、X射線衍射及散射能譜測(cè)試技術(shù)研究了陶瓷膜的形貌和組成。然后通過(guò)對(duì)陶瓷膜的表面形貌進(jìn)行
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