全息曝光條紋鎖定研究與裝置設(shè)計.pdf

1、從20世紀(jì)中葉到如今，光柵制作的工藝歷經(jīng)了幾個階段，最初的刻劃光柵制作條件苛刻，價格昂貴，耗時費(fèi)力，無法被大批量生產(chǎn)和廣泛使用。然而隨著激光器的誕生和全息照相技術(shù)的發(fā)明，全息光柵應(yīng)運(yùn)而生。與先前的刻劃光柵相比，全息光柵沒有鬼線，雜散光更小，分辨率和信噪比高，具有更優(yōu)越的光學(xué)性能。更為重要的是，制作全息光柵對設(shè)備環(huán)境的要求不像刻劃光柵那樣苛刻，成本也較低，因此有著廣闊的應(yīng)用前景。
　　 全息光柵的制作流程大致可以分為六個步驟：

2、r>　　 1、基板準(zhǔn)備
　　 2、涂膠，即光致刻蝕劑，用來記錄干涉條紋
　　 3、曝光。兩相干光束以一定夾角彼此相遇，在空間形成明暗交替，平行等間距的干涉條紋，光致刻蝕劑把條紋信息記錄下來，形成潛像。
　　 4、顯影
　　 5、離子刻蝕
　　 6、清潔處理
　　 在第三步全息曝光的過程中，實(shí)際上就是相干光干涉，在光刻膠上形成有規(guī)律分布的潛像的過程。因此干涉條紋的穩(wěn)定性對于潛像質(zhì)量的高低有

3、著直接的影響，進(jìn)而影響掩模的形貌和離子刻蝕后光柵的槽型?？紤]到干涉條紋穩(wěn)定性對全息曝光的重要意義，結(jié)合實(shí)驗(yàn)室實(shí)際，我將通過研究干涉條紋鎖定的方法，制作條紋鎖定裝置，保證全息光柵曝光過程中干涉條紋的穩(wěn)定性，為顯影、刻蝕后得到良好的光柵槽型提供保證。
　　 本文依據(jù)反饋控制的理論，構(gòu)造閉環(huán)反饋控制回路，采用光電探測器進(jìn)行誤差信號（光信號）的提取，經(jīng)過光一電轉(zhuǎn)換，得到電信號，由于信號極其微弱，再先后通過前置放大，差動放大，積分電路，對