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文檔簡介
1、微弧氧化技術(shù)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一門新的表面處理技術(shù)。相對(duì)于傳統(tǒng)的陽極氧化膜,微弧氧化膜具有與基體結(jié)合牢固、耐腐蝕、耐磨損和抗高溫?zé)g等一系列優(yōu)點(diǎn),能夠很好地解決傳統(tǒng)表面處理技術(shù)不能解決的問題。但目前微弧氧化技術(shù)在微弧氧化無疏松膜層、可控可預(yù)測的制備工藝以及成膜機(jī)理等方面的研究尚不完善,因此有必要對(duì)微弧氧化無疏松膜層的制備方法和可控可預(yù)測的制備工藝展開進(jìn)一步的研究,以更好地滿足國防、航空航天、武器裝備等領(lǐng)域的應(yīng)用需求。
2、 本課題針對(duì)目前應(yīng)用最為廣泛的鋁合金LC4,研究了短時(shí)間鋁合金LC4微弧氧化無疏松層硬質(zhì)薄膜的制備方法,深入研究了影響微弧氧化無疏松層硬質(zhì)膜的影響參數(shù)及其影響規(guī)律,采用最小二乘法擬合出微弧氧化無疏松層硬質(zhì)薄膜的厚度和硬度與各影響參數(shù)之間的關(guān)系表達(dá)式,并確定了各影響參數(shù)的優(yōu)選范圍;通過正交旋轉(zhuǎn)組合試驗(yàn)設(shè)計(jì),建立了微弧氧化膜的厚度和硬度與電解液各組分濃度關(guān)系的二次回歸數(shù)學(xué)預(yù)測模型,并根據(jù)優(yōu)化理論得出鋁合金LC4微弧氧化無疏松層硬質(zhì)薄膜回歸優(yōu)
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