黃光激光器聚光元件減反膜的研究.pdf_第1頁(yè)
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1、為滿足589 nm黃光激光器聚光元件上雙波段減反膜的使用要求，即在589 nm反射率要求控制在2％～3％之間、1064 nm反射率小于1％。本文以Ta2O5和SiO2為鍍膜材料，以減反膜的設(shè)計(jì)理論為基礎(chǔ)，分別設(shè)計(jì)了周期膜系減反射膜和非周期膜系減反射膜。并根據(jù)實(shí)驗(yàn)得到的光學(xué)常數(shù)使用TFC膜系設(shè)計(jì)軟件對(duì)非周期膜系進(jìn)行了優(yōu)化。薄膜的制備運(yùn)用電子束蒸發(fā)和離子束輔助沉積方法，通過(guò)調(diào)整沉積速率、離子源參數(shù)、充氧量、基底溫度等工藝參數(shù)，解決了兩個(gè)波段

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