非晶硅薄膜紅外特性與制備工藝研究.pdf

1、非晶硅薄膜作為一種極具發(fā)展?jié)摿Φ陌雽?dǎo)體材料,在日常生活中有著廣泛的應(yīng)用。非晶硅材料以其優(yōu)異的光電特性、熱阻特性、熱光特性以及與集成電路工藝良好的兼容性,被大范圍的應(yīng)用在太陽能發(fā)電、光電集成器件以及熱成像等領(lǐng)域。本文將針對非晶硅材料的熱光特性以及非晶硅薄膜的在實際應(yīng)用中要求,進行以下研究:
　　運用了單振子模型對非晶硅的熱光系數(shù)進行了公式推導(dǎo),在所得公式基礎(chǔ)上對各個參量進行了初步仿真分析。在初步仿真和分析的基礎(chǔ)上對參數(shù)進行近似化簡,

2、按照非晶硅中氫含量的高低差異建立了兩種模型,分別討論和分析了非晶硅的熱光系數(shù)與氫含量之間的關(guān)系。
　　實驗制備并分析了非晶硅材料傅里葉紅外透射光譜,研究了不同的實驗工藝條件對非晶硅材料的紅外響應(yīng)特性的影響,發(fā)現(xiàn)在射頻功率較低、基片溫度較低以及反應(yīng)壓強較低的情況下,制備的非晶硅材料的含氫量較高。
　　借助Fabry-Perot濾波器模型,理論分析了薄膜的厚度均勻性對濾波器性能的影響,說明了研究薄膜厚度均勻性的意義。